蚀刻均匀性 ·对不同点在蚀刻前后进行厚度的测量 ·越多的测量点，精密度越高 ·标准偏差的定义与一般使用的相同 ·不同的定义有不同的结果 Hong Xiao,Ph.D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo 16 k.htm
Hong Xiao, Ph. D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo k.htm 16 蚀刻均匀性 • 对不同点在蚀刻前后进行厚度的测量 • 越多的测量点，精密度越高 • 标准偏差的定义与一般使用的相同 • 不同的定义有不同的结果
非均匀性标准偏差 N点测量 (x1-x)2+(x2-x)2+(x3-x)2+.+(xw-x)2 0= N-1 x=++3+.+y N Hong Xiao,Ph.D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo 17 k.htm
Hong Xiao, Ph. D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo k.htm 17 非均匀性标准偏差 N x x x x x + N + + + = 1 2 3 1 ( ) ( ) ( ) ( ) 2 2 3 2 2 2 1 − − + − + − + + − = N x x x x x x x x N N点测量
均匀性的极大一极小 蚀刻非均匀性(U)可经由下列方程式计算 (称为极大一极小均匀性)： NU(%)=(Emax -Emin)/2Eave Enax=蚀刻速率极大蚀测量值 Emin=蚀刻速率极小蚀测量值 Eave =平均蚀刻速率 ● Hong Xiao,Ph.D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo 18 k.htm
Hong Xiao, Ph. D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo k.htm 18 蚀刻非均匀性 (NU)可经由下列方程式计算 (称为 极大—极小均匀性): NU(%) = (Emax - Emin)/ 2Eave Emax = 蚀刻速率极大蚀测量值 Emin = 蚀刻速率极小蚀测量值 Eave = 平均蚀刻速率 均匀性的极大—极小
选择性 ·选择性是指不同材料间的蚀刻速率比率. ·图案蚀刻非常重要 ·对底层材料和对光刻胶的选择性 S- E E2 Hong Xiao,Ph.D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo 19 k.htm
Hong Xiao, Ph. D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo k.htm 19 选择性 S = E1 E2 • 选择性是指不同材料间的蚀刻速率比率. • 图案蚀刻非常重要 • 对底层材料和对光刻胶的选择性
选择性 ·硼磷硅玻璃(BPSG)对多晶硅的选择性：S= E2 光刻胶 E2 BPSG E 栅极二氧化硅 多晶硅 硅 Hong Xiao,Ph.D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo 20 k.htm
Hong Xiao, Ph. D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo k.htm 20 选择性 E1 E2 光刻胶 BPSG 多晶硅 • 硼磷硅玻璃(BPSG)对多晶硅的选择性: 硅 栅极二氧化硅 S = E1 E2