Chapter 7 等离子体的基础原理 1
1 Chapter 7 等离子体的基础原理
目标 ·列出至少三种使用等离子体的C工艺 ·列出等离子体中重要的三种碰撞 ·描述平均自由程 ·解释等离子体在蚀刻和化学气相沉积工 艺的好处 ·说出至少两种高密度等离子体系统 2
2 目标 • 列出至少三种使用等离子体的IC工艺 • 列出等离子体中重要的三种碰撞 • 描述平均自由程 • 解释等离子体在蚀刻和化学气相沉积工 艺的好处 • 说出至少两种高密度等离子体系统
讨论的主题 ·什么是等离子体？ ·为什么使用等离子体？ ·离子轰击 ·等离子体工艺的应用 3
3 讨论的主题 • 什么是等离子体? • 为什么使用等离子体? • 离子轰击 • 等离子体工艺的应用
等离子体工艺的应用 ·化学气相沉积 ·蚀刻 ·物理气相沉积 ·离子注入 ·光刻胶剥除 。工艺反应室的的干式清洗 4
4 等离子体工艺的应用 • 化学气相沉积 • 蚀刻 • 物理气相沉积 • 离子注入 • 光刻胶剥除 • 工艺反应室的的干式清洗
等离子体是什么？ ·具有等量的正电荷和负电荷的离子气体 ·更精确的定义：等离子体就是具有等量带电性 与中性粒子的气体，等离子体本身就是这些例 子的集体行为 ·例如 -太阳，电孤等 5
5 等离子体是什么? • 具有等量的正电荷和负电荷的离子气体 • 更精确的定义:等离子体就是具有等量带电性 与中性粒子的气体，等离子体本身就是这些例 子的集体行为 • 例如 –太阳,电弧等