简介 ·掺杂半导体 ·两种掺杂的方法 -扩散 -离子注入 ·离子注入的其他应用 6
6 简介 • 掺杂半导体 • 两种掺杂的方法 –扩散 –离子注入 • 离子注入的其他应用
掺杂半导体：扩散 ·等向性工艺 ·无法单独控制掺杂物的轮廓和掺杂物的 浓度 。在1970年代中期以后被离子注入取代. 7
7 掺杂半导体：扩散 • 等向性工艺 • 无法单独控制掺杂物的轮廓和掺杂物的 浓度 • 在1970年代中期以后被离子注入取代
掺杂半导体：扩散 ·最先用来掺杂半导体 ·在高温炉中完成 ·使用二氧化硅光罩 ·仍然使用在掺杂物驱入(drive-in) ·在超浅接面形成的应用 8
8 掺杂半导体：扩散 • 最先用来掺杂半导体 • 在高温炉中完成 • 使用二氧化硅光罩 • 仍然使用在掺杂物驱入(drive-in) • 在超浅接面形成的应用
沉积掺杂氧化层 沉积掺杂氧化层 二氧化硅 硅基片
9 沉积掺杂氧化层 硅基片 二氧化硅 沉积掺杂氧化层
氧化 二氧化硅 硅基片 10
10 氧化 硅基片 二氧化硅