光刻胶效能的因素 。分辨率 ·附着力 ·曝光速率，感光力和曝光光源 ·工艺自由度 ·针孔 ·粒子和污染物的等级 。 阶梯覆盖(Step Coverage) 。子 热流量(Thermal Flow) Hong Xiao,Ph.D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo 21 k.htm
Hong Xiao, Ph. D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo k.htm 21 光刻胶效能的因素 • 分辨率 • 附着力 • 曝光速率, 感光力和曝光光源 • 工艺自由度 • 针孔 • 粒子和污染物的等级 • 阶梯覆盖(Step Coverage) • 热流量(Thermal Flow)
分辨率的性能 ·在光刻胶层可以产生的最小开口或空间. ·与曝光源和显影过程等特别工艺相关」 ·光刻胶薄膜越薄，分辨率越高. 对抗蚀刻、离子布质的遮蔽和无针孔则需要 较厚的光刻胶薄膜 ·正光刻胶因为聚合体的尺寸较小，所以有较 好的分辨率. Hong Xiao,Ph.D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo 22 k.htm
Hong Xiao, Ph. D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo k.htm 22 分辨率的性能 • 在光刻胶层可以产生的最小开口或空间. • 与曝光源和显影过程等特别工艺相关. • 光刻胶薄膜越薄，分辨率越高. • 对抗蚀刻、离子布质的遮蔽和无针孔则需要 较厚的光刻胶薄膜 • 正光刻胶因为聚合体的尺寸较小，所以有较 好的分辨率
光刻工艺 Hong Xiao,Ph.D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo 23 k.htm
Hong Xiao, Ph. D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo k.htm 23 光刻工艺
光刻工艺的基本步骤 。光刻胶涂布 ·对准和曝光 ·显影 Hong Xiao,Ph.D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo 24 k.htm
Hong Xiao, Ph. D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo k.htm 24 光刻工艺的基本步骤 • 光刻胶涂布 • 对准和曝光 • 显影
基本步骤，旧技术 ·晶圆清洗 ·脱水烘烤 ·底漆层的旋转涂布与光刻胶 光刻胶涂布 ·软烘烤 ·对准和曝光 ·显影 ·图案检视 显影 ·硬烘烤 Hong Xiao,Ph.D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo 25 k.htm
Hong Xiao, Ph. D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo k.htm 25 基本步骤, 旧技术 • 晶圆清洗 • 脱水烘烤 • 底漆层的旋转涂布与光刻胶 • 软烘烤 • 对准和曝光 • 显影 • 图案检视 • 硬烘烤 光刻胶涂布 显影