正负光刻胶的比较 负光刻胶 正光刻胶 ·曝光后不可溶解 ·曝光后不可溶解 ·显影之后，未曝光 ·显影之后，曝光的 的部分被显影剂溶 部分被显影剂溶解 解. ·分辨率较好 ·较便宜 Hong Xiao,Ph.D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo 6 k.htm
Hong Xiao, Ph. D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo k.htm 6 负光刻胶 • 曝光后不可溶解 • 显影之后，未曝光 的部分被显影剂溶 解. • 较便宜 正光刻胶 • 曝光后不可溶解 • 显影之后，曝光的 部分被显影剂溶解 • 分辨率较好 正负光刻胶的比较
正负光刻胶的图案化工艺 光刻胶 基片 紫外线 光罩/倍缩光罩 光刻胶 曝光 基片 负光刻胶 基片 显影后 正光刻胶 基片 Hong Xiao,Ph.D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/ 7 Book.htm
Hong Xiao, Ph. D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/ Book.htm 7 光罩/倍缩光罩 曝光 显影后 负光刻胶 紫外线 正光刻胶 基片 基片 基片 光刻胶 基片 光刻胶 正负光刻胶的图案化工艺
光刻胶化学 ·始于印刷电路技术 ·1950年代后为半导体工业采用 ·图案化工艺的关键 ·分为正、负光刻胶两种 Hong Xiao,Ph.D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo 8 k.htm
Hong Xiao, Ph. D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo k.htm 8 光刻胶化学 • 始于印刷电路技术 • 1950年代后为半导体工业采用 • 图案化工艺的关键 • 分为正、负光刻胶两种
光刻胶的基本成分 ·聚合体 ·溶剂 ·感光剂 。添加剂 Hong Xiao,Ph.D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo 9 k.htm
Hong Xiao, Ph. D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo k.htm 9 光刻胶的基本成分 • 聚合体 • 溶剂 • 感光剂 • 添加剂
聚合体 ·有机固态材料 ·将设计图案转移到晶圆表面 ·由紫外线曝光时的光化学反应改变溶解度 ·正光刻胶：从不可溶到可溶 ·负光刻胶：从可溶到不可溶 Hong Xiao,Ph.D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo 10 k.htm
Hong Xiao, Ph. D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo k.htm 10 聚合体 • 有机固态材料 • 将设计图案转移到晶圆表面 • 由紫外线曝光时的光化学反应改变溶解度 • 正光刻胶: 从不可溶到可溶 • 负光刻胶: 从可溶到不可溶