6.1激励源技术 ◆时空完整表述的激励源 >源的空间分布 ■E。m(x,y)未知？ 1.采用近似的模式分布。可能会激励起不希望存在的数值模式。添加一长段辅助波导， 让高次模充分衰落，余下较纯的所需模式分布，参数提取在辅助段之后进行 2.数值仿真获得所需模式分布。用FDTD法仿真一个与被研究波导截面相同、足够长的均 匀波导，使高次模充分衰落，在波导远端记录横截面切向电场分量的分布，存储作为 强迫激励源空间分布供正式计算调用 >源的频谱分布 ■导波系统的激励中，源的频谱尽量不包含低于截止频率以下的分量 ■若包含低于截止频率以下的分量，它们会在源区附近产生不传播的电抗性场 ■ 当关闭强迫激励源、换成标准FDTD刷新公式时，这些寄生场发生瞬变。这种瞬变的频谱中 有高于截止率的成份，它们会在波导中传播，“污染”波导中的场数据。 12
12 6.1 激励源技术 时空完整表述的激励源 源的空间分布 未知 ？ 1. 采用近似的模式分布。可能会激励起不希望存在的数值模式。添加一长段辅助波导， 让高次模充分衰落，余下较纯的所需模式分布，参数提取在辅助段之后进行 2. 数值仿真获得所需模式分布。用FDTD法仿真一个与被研究波导截面相同、足够长的均 匀波导，使高次模充分衰落，在波导远端记录横截面切向电场分量的分布，存储作为 强迫激励源空间分布供正式计算调用 源的频谱分布 导波系统的激励中，源的频谱尽量不包含低于截止频率以下的分量 若包含低于截止频率以下的分量，它们会在源区附近产生不传播的电抗性场 当关闭强迫激励源、换成标准FDTD刷新公式时，这些寄生场发生瞬变。这种瞬变的频谱中 有高于截止频率的成份，它们会在波导中传播，“污染”波导中的场数据。 0, tan E ( , ) x y
6.1激励源技术 966 ◆ 总场/散射场体系 >FDTD总场/散射场体系和FDFD总场/散射场体系相同 >例：机箱屏蔽问题 ■入射波只有Emx和Hmy=Emx/%分量 ■ 激励连接平面位于：=k△处 ■ E,和E,位于激励连接平面上 且取为总场 吸收边界 激励连接平面 孔阵面 散射场区 总场区 机箱 k△z 13
13 6.1 激励源技术 总场/散射场体系 FDTD总场/散射场体系和FDFD总场/散射场体系相同 例：机箱屏蔽问题 入射波只有 和 分量 激励连接平面位于 处 和 位于激励连接平面上 且取为总场 Ein,x in, in, 0 / H E y x z k z Ex Ey x z k z L 散射场区 总 场 区 机箱 吸收边界 激励连接平面 孔阵面