814.3.2胺的烷基化RXNH3RNH2 + NH4XRXR,NH+NH4XRXR3N + NHX使用过量的氨RX可以得到伯胺为主的产物R4N*X控制条件，也可以得到某一胺为主的产物Organie Chem
Organic Chem §14.3.2 胺的烷基化 NH3 RX RNH2 R2NH R3N R4N +X NH4X RX RX RX + + + NH4X NH4X 使用过量的氨 可以得到伯胺为主的产物 控制条件,也可以得到某一胺为主的产物
SN2RNH2(过量）+ R'CH,CIRNHCH,R伯卤烷，不易消除烃基化试剂NaHCO3,90℃NH2 (过量)+CH,CI(88%)烃基化试剂Organic Chem
Organic Chem SN2 RNH2 (过量) + R'CH2Cl 烃基化试剂 RNHCH2R' 伯卤烷，不易消除 (过量) CH2Cl CH2NH NaHCO3 ,90 C。 + 烃基化试剂 (88%) NH2
有时可用醇或酚代替卤烷作为烃基化试剂。例如：H2S040rA1203NH2 + CH3OHNHCH3△,P对氧化剂较苯胺稳定N-甲基苯胺有机合成原料H2S040rA1203NH2 + 2CH30HN(CH3△,P烃基化试剂N,N-二甲基苯胺ZnCl2,260℃OH-+ H,0烃基化试剂Organic Chem
Organic Chem 有时可用醇或酚代替卤烷作为烃基化试剂。例如： N-甲基苯胺 N,N-二甲基苯胺 对氧化剂较苯胺稳定 有机合成原料 + 2CH3OH N(CH3)2 NH2 NH2 + CH3OH NHCH3 H2SO4orAl2O3 ,P H2SO4orAl2O3 ,P 烃基化试剂 + OH 烃基化试剂 NH ZnCl2 ,260。C NH2 + H2O
R4Ntx_ AgOHHoffmann烯R4N+OH△季胺碱列 : CH,CH,CHCHJOHCH,CHCH=CH2 +(CH,CH= CHCH3△次主要95%+N(CH3)3用于胺的结构测定：CH3CH3OH2CH3OHCH3CH3CH3OHCH,I△CHCH3Organic Chem
Organic Chem R4N+X AgOH R4N+OH Hoffmann烯 季胺碱 例： CH3CH2CHCH3 N(CH3 )3 + OH CH3CH2CH CH2 + (CH3CH CHCH3 ) 主要 95% 次 用于胺的结构测定： N CH3 CH3 CH3 CH3 I OH CH3 N CH3 2CH3 I OH N CH3 CH3 CH3 + OH H
-Hoffmann烯优先生成取代基较少的烯烃电子因素：NR,是难离去基团，消去历程按似Eich.即必须等B-H键几乎完全生成，H-C键几乎完全断裂，+NR,才开始离去.β-碳上取代基少的，有利于稳定发展中的负电荷，过渡态能量较低，故生成β-取代少的烯烃Hoffmann烯Organie Chem
Organic Chem NR3是难离去基团，消去历程按似E1cb .即 必须等B-H键几乎完全生成，H-C键几乎 完全断裂， +NR3才开始离去.β-碳上取代基 少的，有利于稳定发展中的负电荷，过渡态 能量较低，故生成β-取代少的烯烃 ——Hoffmann烯。 优先生成取代基较少的烯烃——Hoffmann烯 电子因素: