点源与微小平面源的相对膜厚分布 1.0 点蒸发源 0.8 0.6上 小型平面蒸发源 0.4 0.2 00.10.40.5 1.0 1.5 2.0 z/h
点源与微小平面源的相对膜厚分布
2.1.2真空热蒸发镀膜的方式及特点 技术分类：依据蒸发源的不同 电阻热蒸发 真空蒸发技术 电子束蒸发 激光束蒸发
真 空 蒸 发 技 术 激光束蒸发 电阻热蒸发 电子束蒸发 技术分类：依据蒸发源的不同 2.1.2 真空热蒸发镀膜的方式及特点
1.电阻加热式热蒸发 对蒸发源材料的要求是 (1)熔点要高。 (2)饱和蒸气压低。 (3)化学性能稳定。 (4)具有良好的耐热性。 采用钽、钼、钨等高熔点金属，做成适当形状的蒸发源
1. 电阻加热式热蒸发 (1) 熔点要高。 (2) 饱和蒸气压低。 (3) 化学性能稳定。 (4) 具有良好的耐热性。 采用钽、钼、钨等高熔点金属，做成适当形状的蒸发源 对蒸发源材料的要求是
2.电子束热蒸发 电子束 坩埚 聚焦极 灯丝 优点： 10kV 0500V 阳极偏转磁场 (1)束流密度高。 (2)水冷坩埚内可避免容器材料的蒸发，以及容器材料与蒸镀材料之 间的反应，提高镀膜的纯度。 (3)热效率高，热传导和热辐射的损失少。 (4)可方便地通过改变磁场来调节电子束的轰击位置。再加上在结构上 采用内藏式阴极，既防止了极间放电，又避免了灯丝污染
2. 电子束热蒸发 (1) 束流密度高。 (2) 水冷坩埚内可避免容器材料的蒸发，以及容器材料与蒸镀材料之 间的反应，提高镀膜的纯度。 (3)热效率高，热传导和热辐射的损失少。 (4) 可方便地通过改变磁场来调节电子束的轰击位置。再加上在结构上 采用内藏式阴极，既防止了极间放电，又避免了灯丝污染。 优点 :
3.脉冲激光沉积(PLD) 原理 一将大功率激光器，置于真空室外，使高能量的激光束透过窗口进入真空室 中，经棱镜或凹面镜聚焦，照射到蒸发材料上，激光超强的功率使得靶物 质快速等离子化，然后溅镀到目标物上。 真空室 电机 气体 准分子激光器 窗口 羽辉 基片 加热器 窗口
3. 脉冲激光沉积（PLD） • 原理 – 将大功率激光器，置于真空室外，使高能量的激光束透过窗口进入真空室 中，经棱镜或凹面镜聚焦，照射到蒸发材料上，激光超强的功率使得靶物 质快速等离子化，然后溅镀到目标物上