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电子科技大学:《薄膜晶体管原理与技术》课程教学资源(课件讲稿)第5章 金属氧化物薄膜晶体管
5.1 IGZO金属氧化物半导体的物理基础 5.1.1 IGZO的结构与能带 5.1.2 a-IGZO中的电子态 5.1.3 CAAC-IGZO中的电子态 5.1.4 IGZO中的载流子传输机制 5.2 IGZO-TFT的工作原理与特性 5.3 金属氧化物 TFT 中的关键材料 5.4 金属氧化物半导体薄膜的制备工艺 5.4.1 磁控溅射法 5.4.2 溶液法 5.5 金属氧化物TFT 结构、制造工艺与性能 5.6 金属氧化物TFT的稳定性
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5.2.2a-GZ0TFT的特性 1.TFT的输出特性与转移特性 1E4 0.00028 沟道夹断 VDS-15V 1E-6月 0.00020 VGs=0-400 0.00015 1E-8 V升高 0.00010 线性区 1E-10 0.00005 1e-12 VoN 0.00000 1E-14 40 20 .10 VDS(V) VGs(V) 2.迁移率与阈值电压 300 100 250 Vos=1V 80 V=20V 200 60 150 Vpe=0.1V Vos=2V 100 50 0 10 20 30 51015202530354045 VGS(V) Ves(V)
5.2.2 α-IGZO TFT的特性 1. TFT的输出特性与转移特性 2. 迁移率与阈值电压
3.开关比和亚阈值摆幅 105 10 -8 -10 1 -12 104 S(VIdec) .14 0.1 0 5 10152025 0 o 20 Vas(V) VGs(V)
3. 开关比和亚阈值摆幅
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