一、i 酰卤的生成 RCOOH PX3或PX5或SOC2 RCOX 3CH3COOH PCI3 3CH3COCI H3PO3 bp/℃108 75 52 >200 PCL3常用来制备低沸点酰卤 COOH COCI + POCI3 HCI bp/C 249 197 105 制备高沸点酰卤与芳酰卤 CH3(CH2)COOH+SOCI2->CH3(CH2)COCI+SO,+HCI bp/°C205 76 153 生成的气体HCI、SO2易分离 16
一、酰卤的生成 PCl 常用来制备低沸点酰卤 bp/°C 108 75 52 >200 PCl3常用来制备低沸点酰卤 bp/°C 249 197 105 5 3 bp/°C 249 197 105 制备高沸点酰卤与芳酰卤 CH3(CH2)4COOH + SOCl2 CH3(CH2)4COCl + SO2 + HCl bp/°C 205 76 153 16 p 生成的气体HCl、SO2易分离
二、酸酐的生成 0 R OH R P2O5或(CH3CO)20 0 △，H20 R-C OH (CH3CO)2O的制备： (CH3COO)2Cu,(CH3COO)2Co 2 CH3CHO (CH3CO)20 50-65°℃ H2C-C 磷酸三乙酯 OH 710-730C H2C=C=O H2C-C 750°C 乙烯酮（剧毒气体） CH3 17
二、酸酐的生成 O P2O5或(CH3CO)2O R C OH O R C O P2O5或(CH3CO)2O ,- H2O R C O R C O O (CH3CO)2O的制备： OH O 2 o 2 17 o 2 3
CH3COOH OH H20 CH3COOH H2C=C=0 ROH CH3COOR HCI CH3COCI NH3 CH3CONH2 88-o 聚合H2c=C一P ROH CH3CCH2COR 二乙烯酮 00 HCOOH 浓H2S04 H20+C0 △ 18
3 3 2 2 3 3 2 2 3 3 3 2 3 2 2 3 2 2 4 18 2
三、酯的生成 浓H2SO4或干HCI RCOOH R'OH RCOOR'+H2O △ K= [RCOOR][H2O] [RCOOH][R'OH] 例如： CH3COOH CH3CH2OH- 浓H2S04 CH3COOC2H5+H20 CH2CH2COOH 浓H2S04 CH2CH2COOC2H5 C2H5OH- CH2CH2COOH 苯或甲苯 CH2CH2COOC2H5 根据醇的结构不同，相应的机理分为以下两种。 19
三、酯的生成 K = [RCOOR][H2O] [RCOOH][R’OH] 例如： [RCOOH][R OH] 根据醇的结构不同，相应的机理分为以下两种。 19
1、当羧酸与1或2ROH反应时，酯脱羟基醇脱氢 R-c 1 +H20 OH O-R" 具体机理如下： OH OH* 18 R-C +H' R-C R'OH R-C-OH OH 2 OH 180-R' H OH 3 十 -H20 R-C-OH2 180-R' 18 -R' 步骤2是酯化控制步骤；步骤4是水解控制步骤。 20
1、当羧酸与1°或2°ROH反应时，酯脱羟基醇脱氢 18 + 18 2 具体机理如下： 1 R C O H+ R C OH+ R' OH 18 R COH R C OH OH H+ R C OH R C O OH R' H 2 18 R C OH OH2 -H2O R C OH+ -H+ R C O 18 3 5 步骤2是酯化控制步骤 步骤4是水解控制步骤 O R' 18 O R' 18 O R' 18 4 5 20 步骤2是酯化控制步骤；步骤4是水解控制步骤