☆ 磷酸缓冲液：pH值从6.0~7.6之间 K2HPO4+HCl KH2PO4+KCl KH2PO4+KOH K2HPO4+H2O ☆加入CaCO3： CO3 2 – HCO3 – H2CO3 CO2+H2O +H+ –H– +H+ –H– ☆培养基中所含氨基酸、肽、蛋白质等物质也可起到缓冲作用
☆ 磷酸缓冲液：pH值从6.0~7.6之间 K2HPO4+HCl KH2PO4+KCl KH2PO4+KOH K2HPO4+H2O ☆加入CaCO3： CO3 2 – HCO3 – H2CO3 CO2+H2O +H+ –H– +H+ –H– ☆培养基中所含氨基酸、肽、蛋白质等物质也可起到缓冲作用
渗透压 等渗溶液 适宜微生物生长 高渗溶液 细胞发生质壁分离 低渗溶液 细胞吸水膨胀，直至破裂 大多数微生物适合在等渗的环境下生长，而有的菌 如Staphylococcus aureus则能在3mol/L NaCl的高渗溶液 中生长。能在高盐环境（2.8~6.2/L NaCl）生长的微生 物常被称为嗜盐微生物（Halophiles）。 （2）渗透压和aw
渗透压 等渗溶液 适宜微生物生长 高渗溶液 细胞发生质壁分离 低渗溶液 细胞吸水膨胀，直至破裂 大多数微生物适合在等渗的环境下生长，而有的菌 如Staphylococcus aureus则能在3mol/L NaCl的高渗溶液 中生长。能在高盐环境（2.8~6.2/L NaCl）生长的微生 物常被称为嗜盐微生物（Halophiles）。 （2）渗透压和aw
aw：水分活度（water activity） 各种微生物生长的水分活度：0.6~0.99之间 aw = P P0 细菌 酵母菌 霉菌 微生物 生长的 最低aw 一般：0.90~0.98 嗜盐菌：0.75（约5.5mol/LNaCl） 一般 ：0.87~0.91 高渗酵母：0.61~0.65（<饱和蔗糖液） Saccharomyces rouxii(鲁氏酵母)：0.60 一般：0.80~0.87 耐旱菌：0.65~0.75 Xeromyces bisporus（双孢旱霉）：0.60
aw：水分活度（water activity） 各种微生物生长的水分活度：0.6~0.99之间 aw = P P0 细菌 酵母菌 霉菌 微生物 生长的 最低aw 一般：0.90~0.98 嗜盐菌：0.75（约5.5mol/LNaCl） 一般 ：0.87~0.91 高渗酵母：0.61~0.65（<饱和蔗糖液） Saccharomyces rouxii(鲁氏酵母)：0.60 一般：0.80~0.87 耐旱菌：0.65~0.75 Xeromyces bisporus（双孢旱霉）：0.60
各种微生物对培养基的氧化还原电势的要求： 好氧微生物：+0.3~+0.4V,(在>0.1V以上的环境中均能生长)。 厌氧微生物：只能在+0.1V以下生长。 兼性厌氧微生物：+0.1V以上呼吸、+0.1V以下发酵。 培养基是多氧化还原偶的复杂电化学系统，测出的Eh值仅代表 其综合结果。 对微生物影响最大的是：分子氧和分子氢的浓度。 培养基中常用的还原剂：巯基乙酸、抗坏血酸、硫化氢、半胱 氨酸、谷胱甘肽、二硫苏糖醇等。 （3）氧化还原电势(redox poyential)
各种微生物对培养基的氧化还原电势的要求： 好氧微生物：+0.3~+0.4V,(在>0.1V以上的环境中均能生长)。 厌氧微生物：只能在+0.1V以下生长。 兼性厌氧微生物：+0.1V以上呼吸、+0.1V以下发酵。 培养基是多氧化还原偶的复杂电化学系统，测出的Eh值仅代表 其综合结果。 对微生物影响最大的是：分子氧和分子氢的浓度。 培养基中常用的还原剂：巯基乙酸、抗坏血酸、硫化氢、半胱 氨酸、谷胱甘肽、二硫苏糖醇等。 （3）氧化还原电势(redox poyential)
该培养基的应用目的，即： 是培养菌体还是积累代谢产物？ 是实验室种子培养还是大规模发酵？ 代谢产物是初级代谢产物还是次级代谢产物？ ☆ 用于培养菌体种子的培养基营养应丰富，氮源含量宜高 （碳氮比低）； ☆ 用于大量生产代谢产物的培养基其氮源一般应比种子培养 基稍低，（但若发酵产物是含氮化合物时，有时还应提高培 养基的氮源含量）；若代谢产物是次级代谢产物时要考虑是 否加入特殊元素或特定的代谢产物； （四）根据培养基的应用目的选择原料及其来源
该培养基的应用目的，即： 是培养菌体还是积累代谢产物？ 是实验室种子培养还是大规模发酵？ 代谢产物是初级代谢产物还是次级代谢产物？ ☆ 用于培养菌体种子的培养基营养应丰富，氮源含量宜高 （碳氮比低）； ☆ 用于大量生产代谢产物的培养基其氮源一般应比种子培养 基稍低，（但若发酵产物是含氮化合物时，有时还应提高培 养基的氮源含量）；若代谢产物是次级代谢产物时要考虑是 否加入特殊元素或特定的代谢产物； （四）根据培养基的应用目的选择原料及其来源