液晶显示器用材料特性简介 第一篇 TO导电玻璃简介 TO导电玻璃是在钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上，利用磁控射的方法镀上一层氧化铜锡（俗称T 膜加工制作成的。液晶显示器专用TO导电玻璃，还会在镀TO层之前，镀上一层二氧化硅阻挡层，以阻 止基片玻璃上的钠离子向食内液品里扩散。高档液品显示器专用TO玻璃在溅镀TO层之前基片玻璃还要 进行抛光处理，以得到更均匀的显示控制。液品显示器专用TO玻璃基板一般属超浮法玻璃，所有的镀膜 而为玻璃的浮法锡面。因此，最终的液晶显示器都会沿浮法方向，规律的出现波纹不平整情况 在溅镀TO层时。 不同的靶材与玻璃间，在不同的温度和运动方式下，所得到的T0层会有不同的特性 一些厂家的玻璃TO层常常表面光洁度要低一些，。更容易出现“麻点”现象：有些厂家的玻璃T口层会出现 高蚀间隔带，TO层在蚀刻时，更容易出现直线放射型的缺划或电阻偏高带：另一些厂家的玻璃T口层则 会出现微品泡缝。 TO导电层的特性 T0膜层的主要成份是氧化钢锡。在厚度只有几千埃的情况下，氧化银透过率高，氧化锡导电能力强，液 品显示器所用的T0玻璃正是一种具有高透过率的导电玻璃 由于TO具有很强的吸水性，所以会吸收空气中的水份和二氧化碳并产生化学反应面变质，俗称“霉变” 因此在存放时要防潮。 TO层在活性正价离子溶液中易产生离子置换反应，形成其它导电和透过率不佳的反应物质，所以在加工 过程中，尽量避免长时间放在活性正价离子溶液中 T0层由银多细 小的品粒组成。 品粒在 加温过程中会裂变变小，从而增加更多品界，电子突破品界时会损 耗一定的能量，所以TO导电玻璃的TO层在600度以下会随着温度的升高，电阻也增大 TO导电玻璃的分类： T0导中玻璃按电阳分，分为高电阻玻璃（电阻在150-500欧），普通玻璃（电阻在60-150欧握）、低中 般用于静电防护、触控屏幕制作用：普通玻璃一般用于TN类 用玻声知电子抗干扰：低电阻骏喷一般用于SN液品显示器府透期 。高电阻玻璃 [T0导电玻璃按尺寸分，有14x14".14x16”、20x24等规格：按厚度分，有2.0mm.1.1mm、0.7mm 0.55mm、0.4mm、0.3mm等规格，厚度在0.5mm以下的主要用于STN液品显示器产品. TO导电玻璃按平整度分，分为撒光玻璃和普通玻璃。 影响TO玻璃性能的主要参数 长度、宽度、厚度及允差（±020 垂直度（≤0.10%） 翘曲度（厚度0.7mm以上<0.10%，厚度0.55mm以下<0.15% 微观波纹度 厚度(mm 微观波纹度（表面形貌仪测量 抛光而 装膜面 1.10 0.05μm/20mm 0.10um/20mm 0.70 ≤0.08um/20mm ≤0.13um/20mm 0.55 <0.10um/20mm 50.20um/20mm 0.40 c0.15um20m 0.25um/20mm 倒边 C倒边(0.05mms宽度s0.40mm) R倒边(0.20mm≤宽度≤1.00mm,曲率半径50mm)
液晶显示器用材料特性简介 第一篇 ITO 导电玻璃简介 ITO 导电玻璃是在钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上，利用磁控溅射的方法镀上一层氧化铟锡（俗称 ITO） 膜加工制作成的。液晶显示器专用 ITO 导电玻璃，还会在镀 ITO 层之前，镀上一层二氧化硅阻挡层，以阻 止基片玻璃上的钠离子向盒内液晶里扩散。高档液晶显示器专用 ITO 玻璃在溅镀 ITO 层之前基片玻璃还要 进行抛光处理，以得到更均匀的显示控制。液晶显示器专用 ITO 玻璃基板一般属超浮法玻璃，所有的镀膜 面为玻璃的浮法锡面。因此，最终的液晶显示器都会沿浮法方向，规律的出现波纹不平整情况。 在溅镀 ITO 层时，不同的靶材与玻璃间，在不同的温度和运动方式下，所得到的 ITO 层会有不同的特性。 一些厂家的玻璃 ITO 层常常表面光洁度要低一些，更容易出现“麻点”现象；有些厂家的玻璃 ITO 层会出现 高蚀间隔带，ITO 层在蚀刻时，更容易出现直线放射型的缺划或电阻偏高带；另一些厂家的玻璃 ITO 层则 会出现微晶沟缝。 ITO 导电层的特性： ITO 膜层的主要成份是氧化铟锡。在厚度只有几千埃的情况下，氧化铟透过率高，氧化锡导电能力强，液 晶显示器所用的 ITO 玻璃正是一种具有高透过率的导电玻璃。 由于 ITO 具有很强的吸水性，所以会吸收空气中的水份和二氧化碳并产生化学反应而变质，俗称“霉变”， 因此在存放时要防潮。 ITO 层在活性正价离子溶液中易产生离子置换反应，形成其它导电和透过率不佳的反应物质，所以在加工 过程中，尽量避免长时间放在活性正价离子溶液中。 ITO 层由很多细小的晶粒组成，晶粒在加温过程中会裂变变小，从而增加更多晶界，电子突破晶界时会损 耗一定的能量，所以 ITO 导电玻璃的 ITO 层在600度以下会随着温度的升高，电阻也增大。 ITO 导电玻璃的分类： ITO 导电玻璃按电阻分，分为高电阻玻璃（电阻在150~500欧姆）、普通玻璃（电阻在60~150欧姆）、低电 阻玻璃（电阻小于60欧姆）。高电阻玻璃一般用于静电防护、触控屏幕制作用；普通玻璃一般用于 TN 类液 晶显示器和电子抗干扰；低电阻玻璃一般用于 STN 液晶显示器和透明线路板。 ITO 导电玻璃按尺寸分，有14”x14”、14”x16”、20”x24”等规格；按厚度分，有2.0mm、1.1mm、0.7mm、 0.55mm、0.4mm、0.3mm 等规格，厚度在0.5mm 以下的主要用于 STN 液晶显示器产品。 ITO 导电玻璃按平整度分，分为抛光玻璃和普通玻璃。 影响 ITO 玻璃性能的主要参数： 长度、宽度、厚度及允差（±0.20） 垂直度（≤0.10%） 翘曲度（厚度0.7mm 以上≤0.10%，厚度0.55mm 以下≤0.15%） 微观波纹度 厚度(mm) 微观波纹度(表面形貌仪测量) 抛光面 镀膜面 1.10 ≤0.05μm/20mm ≤0.10μm/20mm 0.70 ≤0.08μm/20mm ≤0.13μm/20mm 0.55 ≤0.10μm/20mm ≤0.20μm/20mm 0.40 ≤0.15μm/20mm ≤0.25μm/20mm 倒边 C 倒边（0.05mm≤宽度≤0.40mm） R 倒边（0.20mm≤宽度≤1.00mm，曲率半径≤50mm）
图角（浮法方向20mmX50mm.比企15mmw15mm》 S102阻挡层厚度(350埃±50埃，550nm透过率90% T0层光学 电学、蚀刻性能 蚀刻液 600C37%HCL:H20:67%HNO3=50:50:3)见表1-1。 表1-1 蒙原 诱讨率 方块电阻 蚀刻时间 (被长550nm) 150AH30A ≥90% ≤180/ <30s 150A±30 ≥889 2002/ <30 200A±50A 287% ≤1502W <30 250A±50A ≥879% ≤1002/▣ <30s 300A450A 879% <800/▣ <35 s 350A450A 85% ≤60/ <60s 400A5 ≥83% ≤50nl <60 450A±50A 2≥839 ≤45/ <60 500A±100A ≥82% ≤402U▣ <60s 700A±100A >81% <300/▣ <1008 900A±100A <200y日 <120s 1250A4200A <150s 1500A+200 ≥869 ≤15/ <200s 2000A±250A ≥80% ≤10/口 <250s 化学稳定性： 耐碱为浸入600C、浓度为10%氢氧化的溶液中5分钟后，TO层方块电阻变化值不超过10% 耐酸为入250C。浓度为%盐酸溶液中5分钟后，0层方块电阳变化值不超过10%。 耐溶剂为在250C 无水乙醇或100份去离子水加3分EC101配制成的清洗液中5分钟后，T0层方块 电阻变化值不超过10% 附着力：在胶带贴附在膜层表而并迅速撕下，膜层无损伤：或连撕三次后，TO层方块电阻变化值不超过 10%. 热稳定性：在3000C的空气中，加热30分钟后，T0导电膜方块电阻值应不大于原方块电阻的300%。 外观质量： 餐纹：不允许 粘附物：包括尘粒、玻璃碎等凸起物，TN型TO导电玻璃被膜面不允许有不可去除的高度超过0,1mm的 粘附物：STN型T0导电玻璃镀膜面不允许有不可去除的高度超过0.05mm的粘附物。 沾污：不可有不溶于水或一般清洗剂无法除去的沾污。 幽边。 长X宽≤2.0mmx1.0mm: 深度不超过玻璃基片厚度的50%：总长度≤总边长的5%， 划痕：见表1-2 表1-2 抛光玻璃 浮法玻璃 励光面 空气面 被道面 空气面 密度0.01mm不计 宽度0.03mm不计 度c0.03mm不计 宽度≤0.05mm不计 0.01mm 度0.03mm 度0.03mm 0.05mms 0.05mm最多2条/每≤0.10mm最多2条/每0.10mm最多2条/每0.10mm最多2条/每 片、单条长度不超过片、单条长度不超过片、单条长度不超过片、单条长度不超过 2mm 10mm 5mm 10mm
倒角（浮法方向2.0mmX5.0mm；其余1.5mmx1.5mm） SIO2阻挡层厚度（350埃±50埃，550nm 透过率≥90%） ITO 层光学、电学、蚀刻性能（蚀刻液：600C 37%HCL:H2O:67%HNO3=50:50:3）：见表1-1。 表1-1 膜厚 透过率 （波长550nm） 方块电阻 蚀刻时间 150A±30 A ≥90% ≤180 Ω/口 <30 s 150A±30 A ≥88% ≤200 Ω/口 <30 s 200A±50 A ≥87% ≤150 Ω/口 <30 s 250A±50 A ≥87% ≤100 Ω/口 <30 s 300A±50A ≥87% ≤ 80 Ω/口 <35 s 350A±50A ≥85% ≤ 60 Ω/口 <60 s 400A±50A ≥83% ≤ 50 Ω/口 <60 s 450A±50A ≥83% ≤ 45 Ω/口 <60 s 500A±100A ≥82% ≤ 40 Ω/口 <60 s 700A±100A ≥81% ≤ 30 Ω/口 <100 s 900A±100A ≥80% ≤ 20 Ω/口 <120 s 1250A±200A ≥85% ≤ 17 Ω/口 <150 s 1500A±200A ≥86% ≤ 15 Ω/口 <200 s 2000A±250A ≥80% ≤ 10 Ω/口 <250 s 化学稳定性： 耐碱为浸入600C、浓度为10%氢氧化钠溶液中5分钟后，ITO 层方块电阻变化值不超过10%。 耐酸为浸入250C、浓度为6%盐酸溶液中5分钟后，ITO 层方块电阻变化值不超过10%。 耐溶剂为在250C、丙酮、无水乙醇或100份去离子水加3分 EC101配制成的清洗液中5分钟后，ITO 层方块 电阻变化值不超过10%。 附着力：在胶带贴附在膜层表面并迅速撕下，膜层无损伤；或连撕三次后，ITO 层方块电阻变化值不超过 10%。 热稳定性：在3000C 的空气中，加热30分钟后，ITO 导电膜方块电阻值应不大于原方块电阻的300%。 外观质量： 裂纹：不允许。 粘附物：包括尘粒、玻璃碎等凸起物，TN 型 ITO 导电玻璃镀膜面不允许有不可去除的高度超过0.1mm 的 粘附物；STN 型 ITO 导电玻璃镀膜面不允许有不可去除的高度超过0.05mm 的粘附物。 沾污：不可有不溶于水或一般清洗剂无法除去的沾污。 崩边：长 X 宽≤2.0mmx1.0mm；深度不超过玻璃基片厚度的50%；总长度≤总边长的5%。 划痕：见表1-2。 表1-2 抛光玻璃 浮法玻璃 抛光面 空气面 镀膜面 空气面 宽度≤0.01mm 不计 宽度≤0.03mm 不计 宽度≤0.03mm 不计 宽度≤0.05mm 不计 0.01mm≤ 宽 度 ≤0.05mm 最多 2条/每 片、单条长度不超过 2mm 0.03mm≤ 宽 度 ≤0.10mm 最多 2条/ 每 片、单条长度不超过 10mm 0.03mm≤ 宽 度 ≤0.10mm 最多 2条 /每 片、单条长度不超过 5mm 0.05mm≤ 宽 度 ≤0.10mm 最多 2条 /每 片、单条长度不超过 10mm
宽度>0.05mm不允许宽度>0.10mm不允许宽度>0.10mm不允许 窗度>0.10mm不允许 玻璃体点状缺陷：包括气泡、夹杂物、表而凹坑、异色点等。点状缺陷的直径定义为：d=(缺陷长+缺陷宽)2。 p表1.3 表1-3 抛光面 镀膜而 d小0.03mm不计 小0.05mm不计 0.03mm≤d≤0.20mm最多4个/每月 0.05mm≤d≤0.30mm最老4个/每月 d>020mm不允许 d>0.30mm不允许 玻璃体线状缺陷（宽度：包括玻筋、光学变形见表14。 表1-4 抛光而 镀膜而 dc0.03mm不i d0.05mm不计 0.03mmd0.20mm最多4个/每月 0.05mmd0.30mm最多4个/每月 d>0.20mm不允许 d少0.30mm不允许 膜层点状缺陷：S1O2阻挡层和T0导电层的点状缺陷包括针孔、空洞、颗粒等，点状缺陷的直径定义为： d=(缺陷长+缺陷定)/2。见表1-5. 表1-5 抛光面 镀膜面 ds0.03mm不计 ds0.05mm不i 0.03mmd小0.10mm最多4个/每片 0.05mmd0.20mm最多4个/每片 d>0.10mm不允许 d>0.20mm不允许 膜层其他峡陷：掉膜、污迹、雾斑等不允许。 TO导电玻璃的工厂自适应测试方法及判定标准： 尺寸：A、测试方法：用直尺和游标卡尺测量待测玻璃原片的长度、宽度、厚度。 B、判定标准：测量结果在供货商所提供的参数范用之内为合格。 面电阻：A、测试方法：把待测试玻璃整个区域做为测试区域，然后测试区域分成九等份后再用四探针测试 :根据测试结果计算出电阻平均值及电阻资料分散值，结果在要求范围内既是合格。 TO层温度性能A、测试方法：把特测玻璃原片在3000C的空气中，加热30分钟，测试其加温前后的同一 点而电阻阻值。 B、判定标准：T0导电膜方块电阻值应不大于原方块电阻的300%为合格。 蚀刻性能：A、测试方法：把待测玻璃原片放入生产线所用的蚀刻液中测试其蚀刻完全的时间。 B、判定标准：蚀刻完全的时间值小于生产工艺所设定时间的一半值为合格 或按表1-1蚀刻性能指标检测 TO层耐碱性能 A、测试方法：把待测玻璃原片放在600C、浓度为10%氢氧化钠溶液中5分钟后，测试其浸泡前后的同一点 而电阻阻值。 B、判定标准：T0层方块电阻变化值不超过10%为合格。 光电性能与可靠 A、测试方法：把特测玻璃与现生产用玻璃按现生产工艺参数，选择一型号制作成成品并测试其光电与可 靠性性能：
宽度>0.05mm 不允许 宽度>0.10mm 不允许 宽度>0.10mm 不允许 宽度>0.10mm 不允许 玻璃体点状缺陷：包括气泡、夹杂物、表面凹坑、异色点等。点状缺陷的直径定义为：d=(缺陷长+缺陷宽)/2。 见表1-3。 表1-3 抛光面 镀膜面 d≤0.03mm 不计 d≤0.05mm 不计 0.03mm≤d≤0.20mm 最多4个/每片 0.05mm≤d≤0.30mm 最多4个/每片 d>0.20mm 不允许 d>0.30mm 不允许 玻璃体线状缺陷(宽度 W)：包括玻筋、光学变形见表1-4。 表1-4 抛光面 镀膜面 d≤0.03mm 不计 d≤0.05mm 不计 0.03mm≤d≤0.20mm 最多4个/每片 0.05mm≤d≤0.30mm 最多4个/每片 d>0.20mm 不允许 d>0.30mm 不允许 膜层点状缺陷：SIO2阻挡层和 ITO 导电层的点状缺陷包括针孔、空洞、颗粒等，点状缺陷的直径定义为： d=(缺陷长+缺陷宽)/2。见表1-5。 表1-5 抛光面 镀膜面 d≤0.03mm 不计 d≤0.05mm 不计 0.03mm≤d≤0.10mm 最多4个/每片 0.05mm≤d≤0.20mm 最多4个/每片 d>0.10mm 不允许 d>0.20mm 不允许 膜层其他缺陷：掉膜、污迹、雾斑等不允许。 ITO 导电玻璃的工厂自适应测试方法及判定标准： 尺寸：A、测试方法：用直尺和游标卡尺测量待测玻璃原片的长度、宽度、厚度。 B、判定标准：测量结果在供货商所提供的参数范围之内为合格。 面电阻: A、测试方法：把待测试玻璃整个区域做为测试区域，然后测试区域分成九等份后再用四探针测试 仪分别测试各区域的面电阻。 B、判定标准：根据测试结果计算出电阻平均值及电阻资料分散值，结果在要求范围内既是合格。 ITO 层温度性能 A、测试方法：把待测玻璃原片在3000C 的空气中，加热30分钟，测试其加温前后的同一 点面电阻阻值。 B、判定标准：ITO 导电膜方块电阻值应不大于原方块电阻的300%为合格。 蚀刻性能：A、测试方法：把待测玻璃原片放入生产线所用的蚀刻液中测试其蚀刻完全的时间。 B、判定标准：蚀刻完全的时间值小于生产工艺所设定时间的一半值为合格。 或按表1-1蚀刻性能指标检测。 ITO 层耐碱性能 A、测试方法：把待测玻璃原片放在600C、浓度为10%氢氧化钠溶液中5分钟后，测试其浸泡前后的同一点 面电阻阻值。 B、判定标准：ITO 层方块电阻变化值不超过10%为合格。 光电性能与可靠性： A、测试方法：把待测玻璃与现生产用玻璃按现生产工艺参数，选择一型号制作成成品并测试其光电与可 靠性性能；
B、判定标准：光电性能与可靠性测试结果与现生产用玻璃结果相当，并在测试产品型号要求范围之内】 TO导由玻璃的洗用趣侧： 模数在240以上的产品 般可途用供货商B级品玻璃 模数在40模以上，240模以下的产品， 一般选用普通A级品玻璃 模数在40模以下的产品，STN产品， 一般选用低电阻抛光玻璃。 C0G产品，一般选用15欧姆抛光玻璃。 附：工厂TO玻璃参老选用原则： 璃基板 方块电阻 选用原则 备注 格莱威宝 30-40 21模HTN数位式产品 有显示不均的产品 格莱成宝 40-60 35模HTN品 板硝子 30-40 3680模HTN数位类产品 有显示不均的产品 21横HTN立品 板硝子 40-60 36~80模HTN字符类产品 ≥22模的TN产品 有轻微显示不均 进口 70-110 ≥81模HTN产品 40模TN产品 A+规TN声品和容温产品 国产 70-110 >42模、A规、B规产品 6、T0导电玻璃的使用方法 任何时候都不容许叠放： 除规定外，一般要求竖向放置：平放操作时，尽量保持T0而朝下：厚度在0.55m以下的玻璃只能竖向 放置： 取放时只能按触四边，不能接触导电玻璃TO表面 轻拿轻放，不能与其它治具和机器碰撞 如果要长时间存 定要注意防潮，以免影响玻璃的电阻和透过率 对于大面积和长条形玻璃，在设计排版时要考虑玻璃基片的浮法方向， 7、TO导电玻璃的贮存及搬运方法： TO是电喷的贮存方法 T0导电玻璃应贮存在室温条件下，湿度在65%以下干燥保存：贮放时玻璃保持竖向放置，玻璃间堆放不 可超过二层，木箱装T0导电玻璃货物堆放不可超过五层。纸箱装货T0导电玻璃货物，原则上不能堆放。 TO导电玻璃搬运方法： 易碎品，小心轻放，保持搬运过程中的稳定性，撒运时层高不得超过三层。 第一信 光刻胶简介 作为图案复制用的光刻胶，主要的指标有光反应速度、光分率、光反应波长、针孔度、粘度等 自97年后，普通的LCD制作用光刻胶基本上都已经把光反应速度提高 一倍以上，使定向层制作前的生产 能力大大提升。现在市面上的LCD制作用光刻胶光反应时间几乎都可以在0秒以下。 光分辨率在近几年也有了很大进展，现市面上的LCD制作用光刻胶都可以做到PITCH在18微米水平。 光反应波长在前几年如果要做到PTCH28微米的水平，被长还得在275钠米以下，经过这几年的发展，现 在在4O0纳米可以反应的光刻胶也可以做到PTCH18微米的水平 光刻胶的技术由于改良发展较快的缘故，葛本上己经解决了针孔率偏高的问愿， 现在大家几平都不再考虑 针孔率对LCD制作的影响了， 粘度的调整要视各家的习惯，一般是50CP的产品由于使用时漆加了一定的稀释剂，可以比较好调整涂覆 效果，成本也可以降低，但是由于大量使用稀释剂，也使光刻胶的一些性能受到影响，在作比较高档的产
B、判定标准：光电性能与可靠性测试结果与现生产用玻璃结果相当，并在测试产品型号要求范围之内。 ITO 导电玻璃的选用规则： 模数在240以上的产品，一般可选用供货商 B 级品玻璃； 模数在40模以上，240模以下的产品，一般选用普通 A 级品玻璃； 模数在40模以下的产品，STN 产品，一般选用低电阻抛光玻璃。 COG 产品，一般选用15欧姆抛光玻璃。 附：工厂 ITO 玻璃参考选用原则： 玻璃基板 方块电阻 选用原则 备注 格莱威宝 30~40 ≤21模 HTN 数位式产品 有显示不均的产品 格莱威宝 40~60 ≤35模 HTN 产品 板硝子 30~40 36~80模 HTN 数位类产品 有显示不均的产品 ≤21模 HTN 产品 板硝子 40~60 36~80模 HTN 字符类产品 ≥22模的 TN 产品 有轻微显示不均 进口 70~110 ≥81模 HTN 产品 ≤40模 TN 产品 A+规 TN 产品和宽温产品 国产 70~110 ≥42模、A 规、B 规产品 6、ITO 导电玻璃的使用方法： 任何时候都不容许叠放； 除规定外，一般要求竖向放置；平放操作时，尽量保持 ITO 面朝下；厚度在0.55mm 以下的玻璃只能竖向 放置； 取放时只能接触四边，不能接触导电玻璃 ITO 表面； 轻拿轻放，不能与其它治具和机器碰撞； 如果要长时间存放，一定要注意防潮，以免影响玻璃的电阻和透过率； 对于大面积和长条形玻璃，在设计排版时要考虑玻璃基片的浮法方向。 7、ITO 导电玻璃的贮存及搬运方法： ITO 导电玻璃的贮存方法： ITO 导电玻璃应贮存在室温条件下，湿度在65%以下干燥保存；贮放时玻璃保持竖向放置，玻璃间堆放不 可超过二层，木箱装 ITO 导电玻璃货物堆放不可超过五层。纸箱装货 ITO 导电玻璃货物，原则上不能堆放。 ITO 导电玻璃搬运方法： 易碎品，小心轻放，保持搬运过程中的稳定性，搬运时层高不得超过三层。 第二篇 光刻胶简介 作为图案复制用的光刻胶，主要的指标有光反应速度、光分辨率、光反应波长、针孔度、粘度等。 自97年后，普通的 LCD 制作用光刻胶基本上都已经把光反应速度提高了一倍以上，使定向层制作前的生产 能力大大提升。现在市面上的 LCD 制作用光刻胶光反应时间几乎都可以在10秒以下。 光分辨率在近几年也有了很大进展，现市面上的 LCD 制作用光刻胶都可以做到 PITCH 在18微米水平。 光反应波长在前几年如果要做到 PITCH28微米的水平，波长还得在275纳米以下，经过这几年的发展，现 在在400纳米可以反应的光刻胶也可以做到 PITCH18微米的水平。 光刻胶的技术由于改良发展较快的缘故，基本上已经解决了针孔率偏高的问题，现在大家几乎都不再考虑 针孔率对 LCD 制作的影响了。 粘度的调整要视各家的习惯，一般是50CP 的产品由于使用时添加了一定的稀释剂，可以比较好调整涂覆 效果，成本也可以降低，但是由于大量使用稀释剂，也使光刻胶的一些性能受到影响，在作比较高档的产
品时会有分朔本下降的趋势。而3OCP的产品，在涂覆效果上，控制稍显困难，但性能比较稳定，比较适 合制作精细度高的产品。 光刻胶的保存条件比较严格，在光线、温度、湿度上都有限制特别是开使用后的光刻胶和稀剂 吸海 其物理化学性能均下降很快，现在光刻胶涂覆工段一般都与自动纯水清洗线连在一起，很多时 都只考虑此度的洁净度，而疏忽了该段的湿度控制，使得光刻胶涂覆的良品率比较低，在显影时光刻胶脱 落严重。起不列保护用她的效果。 1、光刻胶的特性。 光刻胶的组成 LCD使用的光刻胶一般为正性光刻胶，由光敏剂、填料和添加剂混和雨成。 光刻胶的特性： 正性光刻胶中的的填料让光刻胶有一定的粘性，加温固化后能得到一定的初始硬度。而正性光刻胶中的光 板剂中一种溶于碱的小分子化学品，它在紫外线的作用下聚合成一种不溶于强酸和弱碱的比较致密大分 子化合物，但它在强碱中依然可以溶解。 光刻胶的分类： 电子类产品光刻胶分为高感光度光刻胶和低感光度光划胶。高感光度光刻胶可以制作10m以内的高精密 线路，一般用于1C和LCD微显示器制作，低感光度光刻胶制作精度在10um以上，一般用于普通LCD产 品制作和线路板制 形响光刻胶性能的主要参数： 固含量：感光度：粘度：周化温度：针孔本：分拼率 2、光刻胶常用规格表 3、光刻胶工厂自适应测试方法及判定标准： 粘度： A、测试方法：用粘度计测试待测光刻胶的粘度。 B、判定标准：测试结果钻度值与供应商提供参敬一致。 添加剂干燥性能（预烘性能】 A、测试方法：按生产工艺厚度要求，把光刻胶涂覆在TO导电玻璃上，按供应商提供的温度和时参数 加热烘烤。 B、判定标准：在参数温度时间下，光刻胶完全烘干， 显影性能： A、测试方法：将已烘干光刻胶的TO导电玻璃按生产工艺要求和供应商提供的参数要求分别进行显影。 判定标准：显影完全，针孔比例在要求范围内 固化阻蚀性能 A,测试方法：将己显影光刻判胶的TO导电玻璃按生产工艺要求和供应商提供的参数要求分别进行固化 蚀刻脱胶去膜。 B、判定标准：化完全，蚀刻后针孔比例在要求范内，蚀刻后去胶干净无残留 5、光刻胶的使用方法：
品时会有分辨率下降的趋势。而30CP 的产品，在涂覆效果上，控制稍显困难，但性能比较稳定，比较适 合制作精细度高的产品。 光刻胶的保存条件比较严格，在光线、温度、湿度上都有限制，特别是开瓶使用后的光刻胶和稀释剂，一 旦吸潮，其物理化学性能均下降很快。现在光刻胶涂覆工段一般都与自动纯水清洗线连在一起，很多时候 都只考虑此段的洁净度，而疏忽了该段的湿度控制，使得光刻胶涂覆的良品率比较低，在显影时光刻胶脱 落严重，起不到保护阻蚀的效果。 1、光刻胶的特性： 光刻胶的组成： LCD 使用的光刻胶一般为正性光刻胶，由光敏剂、填料和添加剂混和而成。 光刻胶的特性： 正性光刻胶中的的填料让光刻胶有一定的粘性，加温固化后能得到一定的初始硬度。而正性光刻胶中的光 敏剂中一种溶于弱碱的小分子化学品，它在紫外线的作用下聚合成一种不溶于强酸和弱碱的比较致密大分 子化合物，但它在强碱中依然可以溶解。 光刻胶的分类： 电子类产品光刻胶分为高感光度光刻胶和低感光度光刻胶。高感光度光刻胶可以制作10μm 以内的高精密 线路，一般用于 IC 和 LCD 微显示器制作，低感光度光刻胶制作精度在10μm 以上，一般用于普通 LCD 产 品制作和线路板制作。 影响光刻胶性能的主要参数： 固含量；感光度；粘度；固化温度；针孔率；分辨率 2、光刻胶常用规格表： 3、光刻胶工厂自适应测试方法及判定标准： 粘度： A、测试方法：用粘度计测试待测光刻胶的粘度。 B、判定标准：测试结果粘度值与供应商提供参数一致。 添加剂干燥性能（预烘性能） A、测试方法：按生产工艺厚度要求，把光刻胶涂覆在 ITO 导电玻璃上，按供应商提供的温度和时间参数 加热烘烤。 B、判定标准：在参数温度时间下，光刻胶完全烘干。 显影性能： A、测试方法：将已烘干光刻胶的 ITO 导电玻璃按生产工艺要求和供应商提供的参数要求分别进行显影。 B、判定标准：显影完全，针孔比例在要求范围内。 固化阻蚀性能： A、测试方法：将已显影光刻胶的 ITO 导电玻璃按生产工艺要求和供应商提供的参数要求分别进行固化、 蚀刻脱胶去膜。 B、判定标准：固化完全，蚀刻后针孔比例在要求范围内，蚀刻后去胶干净无残留。 5、光刻胶的使用方法：