电子光学系统·电子束入射与X光入射都能激发特征X射线，但二者的穿透深度不同。1.电子束入射的穿透深度仅却决于样品以及加速电压。2.X光入射的穿透深度取决于样品、X光管各项参数(I=AiZV2。例：Cu靶X射线的Ka特征波长约为0.15nm，其在固体中的穿透厚度一般在0.1~10um之间
电子光学系统 • 电子束入射与X光入射都能激发特征X射线，但二者的穿 透深度不同。 1. 电子束入射的穿透深度仅却决于样品以及加速电压。 2. X光入射的穿透深度取决于样品、X光管各项参数 （ I=AiZV2 ）。 例：Cu靶X射线的Ka特征波长约为0.15 nm，其在固体 中的穿透厚度一般在0.1~10μm之间
电子光学系统入射电子3020.1md俄款电子（Z<10埃）二次电子（Z<100块）2.3m3:6m样品：铀（U)p=19.1g/cm特征文时线2F连续辐射样品：铭（AI)荧光辆射P=2.71g/cmKossel指射电子做射广度Re电究加速电压为30KV时，电子束在AI样和U样的X射线发射广度Rx扩散区域图：（图中3.6um及0.14um为扩散距电子束各类穿透深度示意图离，8.2um及2.3um为电子束作用范围的大小）
电子光学系统 加速电压为30KV时，电子束在Al样和U样的 扩散区域图：（图中3.6μm及0.14μm为扩散距 电子束各类穿透深度示意图 离，8.2μm及2.3μm为电子束作用范围的大小）
·除了穿透深度方面的差异外，电子束与X光在辐照方面也有差异。除去强度的影响，电子束相比光更容易让不稳定样品变性
• 除了穿透深度方面的差异外，电子束与X光在辐照方面也有差异。 除去强度的影响，电子束相比X光更容易让不稳定样品变性