物理气相沉积方法的特点 口使用固态或熔融态的物质作为沉积过程的源物质 口源物质经过物理过程进入气相 口在气相中及在衬底表面并不发生化学反应 口使用相对较低的气体压力环境 低压PVD环境下: ◆其他气体分子的散射作用较小,气相分子的运动 路径为一直线; 气相分子在衬底上的沉积几率接近100%
物理气相沉积方法的特点 ◼ 使用固态或熔融态的物质作为沉积过程的源物质 ◼ 源物质经过物理过程进入气相 ◼ 在气相中及在衬底表面并不发生化学反应 ◼ 使用相对较低的气体压力环境 低压PVD环境下： ◆ 其他气体分子的散射作用较小，气相分子的运动 路径为一直线； ◆ 气相分子在衬底上的沉积几率接近100%
真空蒸发法的特点 蒸发法的显著特点之一是其较高的背底 真空度。在较高的真空度下: 不仅蒸发出来的物质原子或分子具 有较长的平均自由程,可以直接沉 积到衬底表面上; 且还可以确保所制备的薄膜具有较 高的纯净度
蒸发法的显著特点之一是其较高的背底 真空度。在较高的真空度下： ◆ 不仅蒸发出来的物质原子或分子具 有较长的平均自由程，可以直接沉 积到衬底表面上; ◆ 且还可以确保所制备的薄膜具有较 高的纯净度。 真空蒸发法的特点
薄膜蒸发沉积装置的示意图 性 装置的主要组成:真空环境、蒸发源、衬底 原则上,真空度应越高越好(~10-5Pa)
薄膜蒸发沉积装置的示意图 ◆ 装置的主要组成：真空环境、蒸发源、衬底…… ◆ 原则上，真空度应越高越好（10-5Pa）
元素的平衡蒸气压随温度的变化 曲线上的点标明 的是相应元素的 熔点 1Do 180
元素的平衡蒸气压随温度的变化 曲线上的点标明 的是相应元素的 熔点
元素的平衡蒸气压随温度的变化 由克劳修斯-克莱普朗( Clausius- Clapeyron)方程 有 如,液态A的平衡蒸气压就满足关系式 lgp (pa)= +14533-0.9991g7-352×1067
元素的平衡蒸气压随温度的变化 T V H dT dpe = I RT H ln p e e − + T 15993 lgpe (Pa)= +14.533-0.999lgT-3.5210-6T 由克劳修斯-克莱普朗(Clausius-Clapeyron)方程 有 如，液态Al的平衡蒸气压就满足关系式