薄膜材料与纳米技术 Thin Film Materials Nanotechnology 北京科技大学材料科学学院唐伟忠 62332475 E-mai wztang@mater.ustb.edu.cn 课件下载网址:wztangteaching(@sina.com 下载密码 123456
薄膜材料与纳米技术 Thin Film Materials & Nanotechnology 北京科技大学材料科学学院 唐伟忠 Tel: 6233 2475 E-mail: wztang@mater.ustb.edu.cn 课件下载网址： wztang_teaching@sina.com 下 载 密 码： 123456
第二讲 薄膜材料制备的真空蒸发法 Preparation of thin films bv y vacuum evaporation
第二讲 薄膜材料制备的真空蒸发法 Preparation of thin films by vacuum evaporation
提要 ◆元素的热蒸发 ◆化合物与合金的热蒸发 ◆蒸发沉积薄膜的均匀性 ◆制备薄膜材料的各种蒸发方法
提 要 ◆ 元素的热蒸发 ◆ 化合物与合金的热蒸发 ◆ 蒸发沉积薄膜的均匀性 ◆ 制备薄膜材料的各种蒸发方法
物理气相沉积 物理气相沉积( physical vapor deposition,PVD)是利用某种物理过程 物质的热蒸发或在粒子轰击下物质 表面原子的溅射,不涉及化学反应过程 的,实现原子从源物质到蕙膜的可控转 移的薄膜(及其他材料)制备方法
物理气相沉积（physical vapor deposition, PVD）是利用某种物理过程 ⎯⎯ 物质的热蒸发或在粒子轰击下物质 表面原子的溅射，不涉及化学反应过程 的，实现原子从源物质到薄膜的可控转 移的薄膜（及其他材料）制备方法。 物理气相沉积
化学气相沉积 化学气相沉积( chemical vapor deposition,CVD)是经由气岙的先驱物, 通过气相原子、分子间的化学反应,生 成薄膜(及其他材料)的技术手段
化学气相沉积（chemical vapor deposition, CVD）是经由气态的先驱物， 通过气相原子、分子间的化学反应，生 成薄膜（及其他材料）的技术手段。 化学气相沉积