第三讲 薄膜材料制备的溅射法 Preparation of thin films y sputtering
第三讲 薄膜材料制备的溅射法 Preparation of thin films by sputtering
气体的放电现象与等离子体 ◆物质的溅射效应和溅射产额 ◆各种各样的溅射技术
提 要 ◆ 气体的放电现象与等离子体 ◆ 物质的溅射效应和溅射产额 ◆ 各种各样的溅射技术
物理气相沉积 物理气相沉积(PVD)是利用某种物理过 程—物质的热蒸发或在受到粒子轰击 时物质表面原子的溅射等,实现物质原子 从源物质到薄膜的物质的可控转移 口溅射法与蒸发法一样,是一种重要的薄膜 PVD制备方法
物理气相沉积 ◼ 物理气相沉积（PVD）是利用某种物理过 程 ⎯⎯ 物质的热蒸发或在受到粒子轰击 时物质表面原子的溅射等，实现物质原子 从源物质到薄膜的物质的可控转移 ◼ 溅射法与蒸发法一样, 是一种重要的薄膜 PVD 制备方法
溅射法制备薄膜的物理过程 ■利用带电荷的离子在电场中加速后具有 定动能的特点,将离子引向欲被溅射 的物质制成的靶电极(阴极) ■入射离子在与靶面原子的碰撞过程中将 后者溅射出来 ■这些被溅射出来的原子将沿着一定的方 向射向衬底,从而实现物质的沉积
◼ 利用带电荷的离子在电场中加速后具有 一定动能的特点，将离子引向欲被溅射 的物质制成的靶电极（阴极） ◼ 入射离子在与靶面原子的碰撞过程中将 后者溅射出来 ◼ 这些被溅射出来的原子将沿着一定的方 向射向衬底，从而实现物质的沉积 溅射法制备薄膜的物理过程
wiboo 薄膜溅射沉 积装置的示 男射靶 意图 阳径 通射气体 靶材是要溅射的材料,它作为阴极,相对于真空室内其他部 分处于负电位。阳极可以是接地的,也可以是浮动的
薄膜溅射沉 积装置的示 意图 ——— 靶材是要溅射的材料，它作为阴极, 相对于真空室内其他部 分处于负电位。阳极可以是接地的，也可以是浮动的