2.离子注入 N(x)=Nme x-Rp)/ 硼原子数 0< Nmax opio p R p 深度ⅹ 2021/2/21
2021/2/21 11 2．离子注入 N e p p x R N x [ 2 ] max 2 2 ( ) ( ) − = − σp σp Nmax 0 Rp 深度 X 硼原子数 0<X<
其中: Rp:平均浓度 op:穿透深度的标准差 Nmax=0.4N/ op NT:单位面积注入的离子数,即离子注入剂量 离子注入的分布有以下两个特点: 1.离子注入的分布曲线形状(Rp,6p),只 与离子的初始能量E有关。并杂质浓度最大 的地方不是在硅的表面,X=0处,而是在X Rp处 2021/2/21
2021/2/21 12 其中： 离子注入的分布有以下两个特点： 1．离子注入的分布曲线形状（Rp，бp），只 与离子的初始能量E0有关。并杂质浓度最大 的地方不是在硅的表面，X＝0处，而是在X ＝Rp处。 Rp：平均浓度 p：穿透深度的标准差 Nmax=0.4NT/ p NT：单位面积注入的离子数，即离子注入剂量