等离子体刻蚀 等离子体的刻蚀实际上相当于 PECVD的逆过程
等离子体刻蚀 等离子体的刻蚀实际上相当于PECVD的逆过程
等离子体刻蚀 的监测 等离子体刻蚀处理的终点监测可依靠监测等离子 体的发射光谱的方法来进行 如,在刻蚀光刻胶时,可监测CO在483.5nm的谱线 强度的变化,其他材料的刻蚀也有相应的谱线
等离子体刻蚀 的监测 等离子体刻蚀处理的终点监测可依靠监测等离子 体的发射光谱的方法来进行 如，在刻蚀光刻胶时，可监测CO在483.5nm的谱线 强度的变化，其他材料的刻蚀也有相应的谱线