■2.径向电阻率均匀性的控制 √固液界面的平坦度 为了获得径向电阻率均匀的单晶,必须调平固液界面。 采用的方法有: A:调整晶体生长热系统,使热场的径向温度梯度变小 B:调节拉晶运行参数,例如对凸向熔体的界面,增加 拉速;对凹向熔体的界面,降低拉速 C:调整晶体或者坩锅的转速 增加晶体转动速度,界面由凸变凹 增加坩锅转动速度,界面由凹变凸 D:增大坩锅内径与晶体直径的比值,一般 坩锅内径:晶体直径=3~25 6
6 ◼ 2. 径向电阻率均匀性的控制 ✓固液界面的平坦度 为了获得径向电阻率均匀的单晶，必须调平固液界面。 采用的方法有: A：调整晶体生长热系统，使热场的径向温度梯度变小 B ：调节拉晶运行参数，例如对凸向熔体的界面，增加 拉速；对凹向熔体的界面，降低拉速 C：调整晶体或者坩锅的转速 增加晶体转动速度，界面由凸变凹 增加坩锅转动速度，界面由凹变凸 D：增大坩锅内径与晶体直径的比值，一般 坩锅内径：晶体直径＝3～2.5：1
小平面效应 晶体生长的固液界面,由于受坩锅中熔体等温 线的限制,常常是弯曲的。如果在晶体生长时 迅速提起晶体,在原子密排面的固液界面会出 现一小片平整的平面,称之为小平面 ■在小平面区杂质浓度与非小平面区有很大差 异,这种杂质在小平面区域分布异常的现象 叫小平面效应。 ■由于小平面效应,小平面区域的电阻率会降 低。为了消除小平面效应带来的径向电阻率 不均匀性,需将固液界面调平。 7
7 ◼ 晶体生长的固液界面，由于受坩锅中熔体等温 线的限制，常常是弯曲的。如果在晶体生长时 迅速提起晶体，在原子密排面的固液界面会出 现一小片平整的平面，称之为小平面。 ✓小平面效应 ◼ 在小平面区杂质浓度与非小平面区有很大差 异，这种杂质在小平面区域分布异常的现象 叫小平面效应。 ◼ 由于小平面效应，小平面区域的电阻率会降 低。为了消除小平面效应带来的径向电阻率 不均匀性，需将固液界面调平