A 200nm TEM中的图像衬度 1
1 TEM中的图像衬度
TEM成像模式 Electron beam Objective lens ·调节中间镜电流使中间镜物平面上下 Objective aperture (back focal plane) Fixed (diffraction pattern) 移动 SAD aperture Intermediate image1 成像-中间镜物平面和物镜像平面重合 Strength ntermediate change lens 样品形貌像，如晶粒形状与大小， Intermediate Intermediate diffraction image 2 析出相形态与分布等 pattern Projector lens Fixed 衍射中间镜物平面与物镜背焦面重合 strength ww.globalsino.com/EM/ Diffraction Final 晶体样品衍射花样，晶体结构信息 Screen pattemn image a b 2
2 TEM成像模式 • 调节中间镜电流使中间镜物平面上下 移动 成像-中间镜物平面和物镜像平面重合 样品形貌像，如晶粒形状与大小， 析出相形态与分布等 衍射-中间镜物平面与物镜背焦面重合 晶体样品衍射花样，晶体结构信息
Lingual nerve recorded at 13500x.120kV 200 um B110] 05m Al cold-rolled LN 20 nm 3 nm HAADF MAG:5100000x HV:200.0:kV
3 3
TEM中的图像衬度 衬度成像原理 √衬度种类 √明/暗场像 衍衬运动学理论 √基本假设/近似处理方法 理想晶体的衍射衬度 √等厚条纹/等倾条纹 非理想晶体（晶体缺陷） 的衍射衬度 √层错/位错/第二相/孪晶
TEM中的图像衬度 • 衬度成像原 理 衬度种类 明/暗场像 • 衍衬运动学理论 基本假设/近似处理方法 • 理想晶体的衍射衬度 等厚条纹/等倾条纹 • 非理想晶体（晶体缺陷）的衍射衬度 层错/位错/第二相/孪晶 4
透射电镜像（衬度）种类 Amplitude 1、质厚衬度：反映试样质量厚度的像， Contrast 衬度取决于试样的原子序数和厚度 2、衍射衬度：反映试样内部的结构和完 整性，起源于衍射光束 振幅衬度 3、相位衬度：由透射束和一束以上的衍 Phase 射束相互干涉产生的像—高分辨像 Contrast △I I8-IA 11 1 5
透射电镜像（衬度）种类 1、质厚衬度：反映试样质量厚度的像， 衬度取决于试样的原子序数和厚度 2、衍射衬度：反映试样内部的结构和完 整性，起源于衍射光束 3、相位衬度：由透射束和一束以上的衍 射束相互干涉产生的像——高分辨像 振 幅 衬 度 Amplitude Contrast Phase Contrast B A B B A B 1 I I I I I I I 5