由两同频率同方向诸振动合成,可得P点合振幅 E=E10+E2+2EE20cos△q Eo 光强I∝E 合成后光强度 心业 I=l+l2+2√l2c△φ(相干光合成光强一般公式) S→P 当E1D=E2即I1=l2时(两缝一样宽) I=21+co△q)=41cay24q 1 COS B 双缝干涉光强分布 I=41cs2β=Dpco2阝 式中β △ cp d sin6 8
由两同频率同方向谐振动合成，可得 p 点合振幅 E = E + E + 2E1 0E2 0 cosΔ 2 2 0 2 1 0 2 0 E10 E20 E0 Δ 2 E0 I I = I1 + I2 + 2 I1 I2 cosΔ E10 = E20 1 2 I = I = = + = 2 1 2 1 1 4I cos 2 I 2I ( 1 cos ) 4I cos Δ Δ 光强 合成后光强度 当 即 时（两缝一样宽） 1 0 = = 2 2 I 4 I cos I cos 2 = = Δ d sin 双缝干涉光强分布 式中 （相干光合成光强一般公式） 1 s 2 s p 8
双缝干涉光强分布 I=41c02阝=Dco2 式中β= △ cp Td sin6 讨论:A.由光强分布可求出条纹位置 πdsin0 =±kπ din=± π sine Ⅰ→B= 入 nn =+(2k+1)→dsin6=±(2k+1) B明纹强度I=47为单个缝产生的强度的四倍。 相干光合成强度I=1+12+2√12cos△ 非相干光合成强度Ⅰ=1+2干涉项 τ=D.Is △t=10 cO△q=0 107次 1-+l 9
I 讨论：A. 由光强分布可求出条纹位置 max I min I = = k d sin 2 ( 2k 1) d sin = + = d sin = k 2 d sin ( 2k 1) = + 0 1 I = 4I I = I1 + I2 + 2 I1 I2 cosΔ 1 2 I = I + I cosΔ = 0 − 1 + 1 B.明纹强度 为单个缝产生的强度的四倍。 C. 相干光合成强度 非相干光合成强度 干涉项 0 I 1 I 1 0 = = 2 2 I 4 I cos I cos 2 = = Δ d sin 双缝干涉光强分布 式中 d = 0.1s t 10 s −8 Δ = 107 次 9