膜光壘薄膜制鲁工艺简介 光学薄膜制备工艺 基片 口成膜工艺 口性能检测 中国科学碗长春光学精密机橄与物理硏究所
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 薄 膜 光 学 ——薄膜制备工艺简介 光学薄膜制备工艺 ❑基片 ❑ 成膜工艺 ❑ 性能检测
膜光学—蒸发工艺简介 基片的种类: 基片的清洗: 玻璃、陶瓷 洗涤剂、化学药 金属 品、超声波清洗、 离子轰击、烘烤 晶体 清洗、蒸汽清洗、 塑料 紫外线和臭氧等 清洗方法 中国科学碗长春光学精密机橄与物理硏究所
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 薄 膜 光 学 ——蒸发工艺简介 基片的种类： 玻璃、陶瓷 金属 晶体 塑料 基片的清洗： 洗涤剂、化学药 品、超声波清洗、 离子轰击、烘烤 清洗、蒸汽清洗、 紫外线和臭氧等 清洗方法
膜光学—蒸发工艺简介 成膜工艺 化学方法 物理方法 化学气相沉积 真空蒸镀 电镀 离子镀 电解 溅射 阳极氧化 分子束外延 等等 等等 中国科学碗长春光学精密机橄与物理硏究所
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 薄 膜 光 学 ——蒸发工艺简介 成膜工艺 化学方法 物理方法 化学气相沉积 电镀 电解 阳极氧化 等等 真空蒸镀 离子镀 溅射 分子束外延 等等
高真空镀膜机 1.真空系统 2蒸发系统 3控制系统 4辅助系统
高真空 镀膜机 • 1.真空系统 • 2蒸发系统 • 3控制系统 • 4辅助系统
膜光学—蒸发工艺简介 真空系统 现代的光学薄膜制备,无论是PVD还是 CVD都是在真空下获得的。根据: Pv RT P-压强、V体积、T绝对温度、M分子量 m-质量、R气体普适常数(8.31x1023mol) n=72×102个米 大气下n=3x1019个/厘 P=1.33x104n=32x1010个/厘米3 中国科学碗长春光学精密机橄与物理硏究所
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 薄 膜 光 学 ——蒸发工艺简介 真空系统 现代的光学薄膜制备，无论是PVD还是 CVD都是在真空下获得的。根据： RT M m PV = P-压强、V-体积、T-绝对温度、M-分子量、 m-质量、R-气体普适常数（8.31x1023/mol) ( ) 22 3 7.2 10 个/米 T P n = 大气下n=3x1019个/厘米3 ， P=1.33x10-4 ,n=3.2x1010个/厘米3