膜光学—蒸发工艺简介 真空度的表示 1Pa=IN/m2 I Torr=133.3Pa l(atm)标准大气压=760Tor MmhG=1.00000014Torr 中国科学碗长春光学精密机橄与物理硏究所
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 薄 膜 光 学 ——蒸发工艺简介 真空度的表示 1Pa=1N/m2 1Torr=133.3Pa 1(atm)标准大气压=760Torr 1mmHg=1.00000014Torr
膜光学—蒸发工艺简介 初真空低真空高真空超高真空 真空度Pa>103 103-10-110-1-10-6<10-6 平均自由 <10-4 104-5 程(cm) >10 1.以气体 1.以气体 分子与器 气流特点分子间的过渡区域壁的碰撞 碰撞为主 为主 粘滞流 2分子流 平均吸 附时间气体分子以空间飞行为主 以吸附停 留为主 中国科学碗长春光学精密机橄与物理硏究所
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 薄 膜 光 学 ——蒸发工艺简介 初真空 低真空 高真空 超高真空 真空度Pa >103 103 -10-1 10-1 -10-6 <10-6 平均自由 程（cm) <10-4 10-4 -5 5-105 >105 气流特点 1.以气体 分子间的 碰撞为主 2.粘滞流 过渡区域 1.以气体 分子与器 壁的碰撞 为主 2.分子流 平均吸 附时间 气体分子以空间飞行为主 以吸附停 留为主