膜光学—蒸发工艺简介 APS1104 德国 Leybold 厘AFS104 LErcOM /and System OM 3000 中国科学碗长春光学精密机橄与物理硏究所
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 薄 膜 光 学 ——蒸发工艺简介 APS1104 •德国 •Leybold
膜光学—蒸发工艺简介 APSo =i ilst 真空室 内情 中国科学碗长春光学精密机橄与物理硏究所
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 薄 膜 光 学 ——蒸发工艺简介 APS1104 真空室 内情况
膜光学—蒸发工艺简介 镜片悬挂 机构 中国科学碗长春光学精密机橄与物理硏究所
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 薄 膜 光 学 ——蒸发工艺简介 • 镜片悬挂 机构
膜光学—蒸发工艺简介 柱状结构 薄膜的为光结构与大块 柱体预部孔 材料不同呈多孔的柱状 结构 牢固度和硬度、耐潮湿本领 下降、光的散射和吸收损失 基片 加大导致耐激光损伤能力下 降,折射率随外界环境发生 变化 薄膜的聚集密度: P=薄膜中固体部分的体积:薄膜的总体积 薄膜的P在0.75~0.95之间,而大块材料P为1 中国科学碗长春光学精密机橄与物理硏究所
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 薄 膜 光 学 ——蒸发工艺简介 薄膜的聚集密度： P=薄膜中固体部分的体积：薄膜的总体积 薄膜的P在0.75～0.95之间，而大块材料P为1 牢固度和硬度、耐潮湿本领 下降、光的散射和吸收损失 加大导致耐激光损伤能力下 降，折射率随外界环境发生 变化 柱状结构 薄膜的为光结构与大块 材料不同呈多孔的柱状 结构
膜光学—蒸发工艺简介 改进蒸发工艺、改善膜层的微观结构 基本的思路:附加一定的能量到被镀的表面上去,利用这 些能量移开弱束缚的粒子,使达到基板的材料粒子有高的 迁移率。由于附加了能量,膜料粒子可以穿透比较远的距 离,去找到一个有比较强束缚的位置。从而使膜层的结构 得到改善 具体实施办法:在膜层沉积的同时,利用电子、光子、离 子将能量附加到基底上去,这不仅有利于清洁被镀表面, 也增加了膜层的致密度 近十几年的趋势是利用荷能的离子完成基片清 洁和改善膜层结构的任豸 中国科学碗长春光学精密机橄与物理硏究所
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 薄 膜 光 学 ——蒸发工艺简介 改进蒸发工艺、改善膜层的微观结构 基本的思路：附加一定的能量到被镀的表面上去，利用这 些能量移开弱束缚的粒子，使达到基板的材料粒子有高的 迁移率。由于附加了能量，膜料粒子可以穿透比较远的距 离，去找到一个有比较强束缚的位置。从而使膜层的结构 得到改善。 具体实施办法：在膜层沉积的同时，利用电子、光子、离 子将能量附加到基底上去，这不仅有利于清洁被镀表面， 也增加了膜层的致密度。 近十几年的趋势是利用荷能的离子完成基片清 洁和改善膜层结构的任务