二.气相沉积
二.气相沉积
2.1物理气相沉积(PVD) 2.1.1物理气相沉积原理 在沉积环境中,以各种物理 方法产生的原子或分子沉积在基 体上,形成薄膜或涂层的过程称 为物理气相沉积
2.1物理气相沉积(PVD) 2.1.1 物理气相沉积原理 在沉积环境中,以各种物理 方法产生的原子或分子沉积在基 体上,形成薄膜或涂层的过程称 为物理气相沉积
2.1.2物理气相沉积主要方法 ●真空茶镀 阴极溅射 ●离子镀
2.1.2 物理气相沉积主要方法 真空蒸镀 阴极溅射 离子镀
加热器 基板 膜面、 111 蒸发源 真空蒸镀原理图
真空蒸镀原理图 加热器 基板 蒸发源 膜面
阴极(靶材) 高压电源DC 阳极(基板) 真空泵 阴极溅射原理图
阴极溅射原理图 阴极(靶材) 阳极(基板) 高压电源DC 真空泵 氩 气