物质的溅射效应 ■阴极鞘层电位的建立使到达阴极的离子均 要经过相应的加速而获得相应的能量,即 轰击阴极的离子具有很高的能量,它使阴 极物质发生溅射现象 ■溅射仅是离子轰击物体表面时发生的物理 过程之一,其相对的重要性取决于入射离 子的种类与能量。几十至几十千eV是物质 溅贱射所对应的离子能量区间
◼ 阴极鞘层电位的建立使到达阴极的离子均 要经过相应的加速而获得相应的能量，即 轰击阴极的离子具有很高的能量，它使阴 极物质发生溅射现象 ◼ 溅射仅是离子轰击物体表面时发生的物理 过程之一，其相对的重要性取决于入射离 子的种类与能量。几十至几十千eV是物质 溅射所对应的离子能量区间 物质的溅射效应
S惮单晶上Ge沉积量与入射Ge+离子能量间的关系 6 沉积现象 出、名 教射现象 高子注入现象 离子能量/keV
Si单晶上Ge沉积量与入射Ge+离子能量间的关系
物质的溅射产额 ■靶材溅射过程释放出的各种粒子中,主要是单 个的原子,以及少量的原子团,而离子所占的 比例只有1-10% 溅射产额是是衡量溅射过程效率的一个参数 被溅射出来的物质总原子数:入射离子数 物质的溅射能量存在一定的阈值;每种物质的 溅射阈值与被溅射物质的升华热成比例。金属 的溅射阈值多在10~40eV之间
◼ 靶材溅射过程释放出的各种粒子中，主要是单 个的原子，以及少量的原子团，而离子所占的 比例只有1-10% ◼ 溅射产额是是衡量溅射过程效率的一个参数： 被溅射出来的物质总原子数 ：入射离子数 ◼ 物质的溅射能量存在一定的阈值；每种物质的 溅射阈值与被溅射物质的升华热成比例。金属 的溅射阈值多在1040eV之间 物质的溅射产额
Ni的溅射产额与入射离子种类和能量之间的关系 入射子 溅贱射有其阈值 入射干量e
Ni的溅射产额与入射离子种类和能量之间的关系 溅射有其阈值
(a)400eVAr离子对各种元素的溅射产额 (b)45keV的不同离子对Ag的溅射产额 2 1 于序齿 厘千E 元素的溅射产额呈周期性变化 惰性气体的溅射产额高,从经济性方面考虑,多使用 Ar作为溅射气体
(a) 400eV Ar离子对各种元素的溅射产额 (b) 45keV 的不同离子对Ag的溅射产额 ◼ 元素的溅射产额呈周期性变化 ◼ 惰性气体的溅射产额高，从经济性方面考虑, 多使用 Ar作为溅射气体