2.汞量法 Hg2CH体系的gK如下: lgK1=6.74,lgK2=6.48,lgk30.85,lgk:=1.0 因K2与K3差别较大,当gCH为5~-3时, HgC2≈100 故可用Hg2滴定C,sp生成HgCl2 如图:(见下页) 上一页 页返园6
上一页 下一页 返回26 2．汞量法 Hg2+ -Cl-体系的lgKi如下： lgK1=6.74，lgK2=6.48，lgK3=0.85，lgK4=1.0 因K2与K3差别较大．当lg[Cl- ]为-5〜-3时， δHgCl2 ≈100% 故可用Hg2+滴定Cl-，sp生成HgCl2 如图：(见下页)
汞氯配合物分布曲线及n图 S1. . S Hg HgCl ,23n 06 04 Hecht HgC 2 .0 sLgCll-3 +1 Cl在一定范围内n不变平均配位数为2 上页[下一页[返园7
上一页 下一页 返回27 Hg2+ HgCl2 _ HgCl2 n HgCl4 2- HgCl+ HgCl3 - Cl 在一定范围内n不变 平均配位数为2
平均配位数 用EDTA作滴定剂时,配合比为11,配位数 为1 用n表示M离子的络合配位体的平均数,M的 生成函数 -[L ∑jI i=1 n= CM n +∑β 上一页 页返回8
上一页 下一页 返回28 三.平均配位数 用EDTA作滴定剂时, 配合比为1:1, 配位数 为1 _ 用n表示M离子的络合配位体的平均数, M的 生成函数 = = + = − = n i 1 i i n i 1 i i M L 1 [L] i [L] c c [L] n
如例1 Cu(NH3)4 阝4NH34 1×13.49+2×40.74+3×30.20+4×3.89 89.32 201.13 2.25(平均配位数不定见下图 89.32 0.8 3 n是[L]的函数 Cu(NH,) Cu(NH,)2 04 0.2 Cu(NH, 0 6 lg[NH, I 铜氨络合物分布曲线及方图 上一页下一页返图9
上一页 下一页 返回29 如[例1] Cu(NH3 ) 4 2+ β4 [NH3 ] 4 1×13.49+2×40.74+3×30.20+4×3.89 = ————————————————— 89.32 201.13 =———— =2.25 （平均配位数不定)见下图 89.32 n是[L]的函数
四.金属离子缓冲溶液 M视为路易斯酸 Y视为路易斯碱 与酸碱缓冲溶液不同的是,以总反应构成缓 冲体系 Y MY DM=p离+”cN MK Y 离Ylb 上一页 页返同0
上一页 下一页 返回30 四.金属离子缓冲溶液 M视为路易斯酸 Y 视为路易斯碱 与酸碱缓冲溶液不同的是, 以总反应构成缓 冲体系． cY [MY] pM=pK离+lg ——— [M]=K离 ——— cMY [Y]