感/(-)芯片的制作 准备 固相支持物(即芯片片基) 固定在芯片上的生物分子样品 制作芯片的仪器 点阵设计(芯片上核酸探针序列的选择以及排布)
(一) 芯片的制作 • 准备 固相支持物（即芯片片基） 固定在芯片上的生物分子样品 制作芯片的仪器 点阵设计（芯片上核酸探针序列的选择以及排布）
感/1.固相支持物的种类及预处理 刚性支持物:玻片、硅片、瓷片 膜性支持物ε尼龙膜、硝酸纤维素膜、聚丙烯膜 膜结合玻片、 FAST S|ides等 原位合成法的支持物:衍生出羟基等活性基团 直接点样法的支持物ε包被氨基硅烷或多聚赖氨酸 13
1. 固相支持物的种类及预处理 13 刚性支持物：玻片、硅片、瓷片 膜性支持物：尼龙膜、硝酸纤维素膜、聚丙烯膜 膜结合玻片、FAST Slides 等 原位合成法的支持物：衍生出羟基等活性基团 直接点样法的支持物：包被氨基硅烷或多聚赖氨酸
点阵的设计 ○○0o0○ 888 ●基本方阵标记 O空白点对照 看家基因对照每种2或4点 探针基因
14 点阵的设计 基本方阵标记 空白点对照 看家基因对照 探针基因 每种2或4点
/2.芯片制备方法 P原位合成 适用于:寡核苷酸 光导合成法(原位光刻合成法)10~40万/cm 压电打印法,密度低,产率高 P预合成后直接点样 适用于:大片段DNA、寡核苷酸、mRNA 接触式点样(针式打印)2500点/cm2 非接触式点样(喷墨打印)400点/cm2
2. 芯片制备方法 15 原位合成 适用于：寡核苷酸 • 光导合成法（原位光刻合成法）10～40万/cm2 • 压电打印法，密度低，产率高 预合成后直接点样 适用于：大片段DNA、寡核苷酸、mRNA • 接触式点样（针式打印） 2500点/cm2 • 非接触式点样（喷墨打印） 400点/cm2
/·光导合成法(原位光刻合成) 美国 Affymetrix公司专利
• 光导合成法（原位光刻合成） 16 美国Affymetrix公司专利