(二)醛和酮的结构 不考虑杂化 羰基的结构： c=0 sp2杂化 电子云分布： C=0 C=0 CH 十 极性分子 2.27D 2.85D 有偶极矩 因
(二) 醛和酮的结构 羰基的结构： C O 不考虑杂化 sp 杂化 2 C O 电子云分布： C O d − d + C O CH3 CH3 C O H H 极性分子 2.27D 2.85D 有偶极矩
(三)醛和酮的制法 (1)醇的氧化或脱氢 (2)羰基合成 (3)同碳二卤化物水解 (4)羧酸衍生物的还原 (5)芳烃的氧化 (6)芳环上的酰基化 国
(三) 醛和酮的制法 (1) 醇的氧化或脱氢 (2) 羰基合成 (3) 同碳二卤化物水解 (4) 羧酸衍生物的还原 (5) 芳烃的氧化 (6) 芳环上的酰基化
(三)醛和酮的制法 (1)醇的氧化或脱氢 RCH2OH [0]-RCHO [0] →RCOOH 1°醇 酸 ”及时蒸出 OH 0 R-CH-R L0 R-C-R'i 2°醇 酮 [0]:KMn04、K2Cr207tH2S04、Cr03+吡啶、Cr03+醋酐、丙酮-异丙醇铝等 氧化到醛、，酮， 通用，氧化性强， 氧化到醛、酮 不破坏双键 须将生成的醛及时蒸出
(三) 醛和酮的制法 (1) 醇的氧化或脱氢 RCH2 OH RCHO RCOOH [O] 及时蒸出 1 。醇 醛 酸 [O]：KMnO4、K2 Cr2 O7 +H2 SO4 、CrO3 +吡啶、CrO3 +醋酐、丙酮-异丙醇铝等 [O] 2 。醇 酮 R－CH－R'¡ OH [O] R－C－R'¡ O 氧化到醛、酮， 通用，氧化性强， 氧化到醛、酮 不破坏双键 须将生成的醛及时蒸出
例： CH3CH2OH K20r207tH2s 4 K2Cr2O7+H2S04 CH3CHO CH3COOH b.p 78C 50°c △ b.p 21C b.p 118 C 所以，生成的乙醛很容易脱离体系。 CH3(CH2)5CHCH3 K2Cr207tH2s04, CH3(CH2)5CCH3 OH H20,100°c 0 2-辛醇 2-辛酮 ,Oppenauer氧化 CH3CHCH=CHCH=CCH=CH2 丙酮，异丙醇铝 苯，回流，80% CH3C-CH=CHCH=CCH=CH2 OH CH3 CH3 OH Cu,300°C 0 脱氢： CH3-CH-CH (orZn0,380°c) CH3-C-CH8
CH3 (CH2 )5 CHCH3 OH CH3 (CH2 )5 CCH3 O K2 Cr2 O7 +H2 SO4 100 C 。 所以，生成的乙醛很容易脱离体系。 CH3 CH2 OH K2 Cr2 O7 +H2 SO4 50 C。 CH3 CHO K2 Cr2 O7 +H2 SO4 CH3 COOH b.p 78 C 。 b.p 21 C 。 b.p 118 C 。 例： H2 O， 2-辛醇 2-辛酮 CH3 C-CH=CHCH=CCH=CH2 O CH3 CH3 CHCH=CHCH=CCH=CH2 OH CH3 丙酮，异丙醇铝 苯，回流，80% Oppenauer氧化 C H3－CH－CH3 OH C H3－C－CH3 O (or ZnO,380 C。 Cu,300 C。 ) 脱氢：
(2)羰基合成 由一烯烃合成多一个碳的醛！ 八羰基二钴 2 例1：CH2CH2+C0—tco(co)42 CH3CH2CHO △，加压 例2： GH0H=0t0a蛋8 [Co (CO)42 CH3CH-CH2 CH CH2CH2CHO +CHaCHCHO CH3 正丁醛（多) 异丁醛（少） 因
(2) 羰基合成 由α－烯烃合成多一个碳的醛！ CH2 =CH2 + CO CH3 CH2 CHO [Co(CO)4 ]2 ,加压 CH2 -CH2 C O H2 八羰基二钴 CH3 CH2 CH2 CHO + CH3 CHCHO CH3 正丁醛（多） 异丁醛（少） H2 CH3 CH=CH2 +CO [Co(CO)4 ]2 ,加压 CH3 CH-CH2 C O 例1： 例2：