聚合物 聚合物是由一组大而且重的分子组成,包 括碳、氢和痒。对负性胶,聚合物曝光后会由 非聚合状态变为聚合状态。在大多数负性胶里 面,聚合物是聚异戊二烯类型。是一种相互粘 结的物质一一抗刻蚀的物质,如图所示 CH- 能量 双键 未聚合的 聚合的
• 聚合物 聚合物是由一组大而且重的分子组成，包 括碳、氢和痒。对负性胶，聚合物曝光后会由 非聚合状态变为聚合状态。在大多数负性胶里 面，聚合物是聚异戊二烯类型。是一种相互粘 结的物质－－抗刻蚀的物质，如图所示。 双键 未聚合的 聚合的 能量 C H C H C H C H (a) (b) ××× × ×× × × ××
正性胶的基本聚合物是苯酚一甲醛聚合物, 也称为苯酚一甲醛树脂。如图所示。 OH 邻位 2和6) OH ⑥ o 3 间位 间甲酚 甲醛 (3和4) 对位(4) 在光刻胶中聚合物是相对不可溶的,用适 当能量的光照后变成可溶状态。这种反应称为 光溶解反应
正性胶的基本聚合物是苯酚－甲醛聚合物， 也称为苯酚－甲醛树脂。如图所示。 在光刻胶中聚合物是相对不可溶的，用适 当能量的光照后变成可溶状态。这种反应称为 光溶解反应。 邻位 （ 和 ） 2 6 间位 （ 和 ） 3 4 间甲酚 甲醛 对位（ ）4
下表列出了用在光刻胶产品上的聚合物,正胶 和负胶相对的有点。 光刻胶 聚合物 极性 感光性 曝光光源 (Coul/cmy 正性 酚醛树脂(间 紫外 甲酚甲醛) 负性 聚异戊二烯 紫外 PMA 聚甲基丙烯酸酯 5×10 电子束 PMIPK 聚甲基异丙烯基酮 1×10 电子束/ 深紫外 PBS 聚丁烯1砜 2×10 电子束 TFECA 聚三氟乙烷基氯丙烯 8×10 电子束 酸酯 COP 共聚物(a氰乙基丙烯酸, 5×10 电子束 (PCA) a氨基乙烷基丙烯酸酯) X射线 PMPS 聚甲基戊烯1砜 电子束
下表列出了用在光刻胶产品上的聚合物，正胶 和负胶相对的有点。 光刻胶 聚合物 极性 感光性 (Coul/cm ) 曝光光源 正性 酚醛树脂（间 甲酚甲醛） 紫外 负性 聚异戊二烯 紫外 聚甲基丙烯酸酯 电子束 聚甲基异丙烯基酮 电子束 / 深紫外 聚丁烯 砜1 电子束 聚三氟乙烷基氯丙烯 电子束 酸酯 电子束 X 线射 共聚物（ 氰乙基丙烯酸， a a 基乙烷基丙烯酸酯） 氨 聚甲基戊烯 砜1 电子束 PMMA PMIPK PBS TFECA COP (PCA) PMPS + + + + + - - + 3-5 10 × 5 10 × 1 10 × 2 10 × 8 10 × 5 10 × 2 10 ×
溶剂 光刻胶中容量最大的成分是溶剂。添加溶 剂的目的是光刻胶处于液态,以便是光刻胶能 够通过旋转的方法涂在晶园表面 感光剂 光刻胶中的感光剂是用来产生或者控制聚 合物的特定反应。如果聚合物中不添加感光剂, 那么它对光的敏感性差,而且光谱范围较宽, 添加特定的感光剂后,可以增加感光灵敏度, 而且限制反应光的光谱范围,或者把反应光限 制在某一波长的光
• 溶剂 光刻胶中容量最大的成分是溶剂。添加溶 剂的目的是光刻胶处于液态，以便是光刻胶能 够通过旋转的方法涂在晶园表面。 • 感光剂 光刻胶中的感光剂是用来产生或者控制聚 合物的特定反应。如果聚合物中不添加感光剂， 那么它对光的敏感性差，而且光谱范围较宽， 添加特定的感光剂后，可以增加感光灵敏度， 而且限制反应光的光谱范围，或者把反应光限 制在某一波长的光