中华人民共和国国家知识产权局 State Intellectual Property office of the People's Republic of China ■背景技术的描述应当包括三方面内容 (1)具体出处 (2)简要说明该背景技术的主要结构和原理 3)客观地指出存在的主要问题 www.sipo.gov.cn
◼背景技术的描述应当包括三方面内容： （1）具体出处 （2）简要说明该背景技术的主要结构和原理 （3）客观地指出存在的主要问题
中华人民共和国国家知识产权局 State Intellectual Property office of the People's Republic of china ■常见缺陷 (i)不引用具体文献,只笼统地论述目前在我国或国际 上现有技术的现状 (i)现有技术的出处不全,公众与审查员难以找到该现 有技术 “今年出版的杂志《广告与信息》上披露了一种 和 专利号写错 (ii)未对现有技术的内容进行简要描述 “本领公知的广告板强度不够,不易拆装… (iv故意贬低背景技术 这种装置的结构如此不合理,体现出设计者的无知 www.sipo.gov.cn
◼ 常见缺陷 （i）不引用具体文献，只笼统地论述目前在我国或国际 上现有技术的现状 （ii）现有技术的出处不全，公众与审查员难以找到该现 有技术 “今年出版的杂志《广告与信息》上披露了一种……”和 专利号写错 （iii）未对现有技术的内容进行简要描述 “本领域公知的广告板强度不够，不易拆装……” （iv) 故意贬低背景技术 “这种装置的结构如此不合理，体现出设计者的无知
中华人民共和国国家知识产权局 State Intellectual Property office of the People's Republic of china 2.4发明或实用新型内容 要解决的技术问题 技术方案 有益效果 www.sipo.gov.cn
2.4 发明或实用新型内容 ➢ 要解决的技术问题 ➢ 技术方案 ➢ 有益效果
中华人民共和国国家知识产权局 State Intellectual Property office of the People's Republic of china 241要解决的技术问题 是岿发明或者实用新型要解决的现有技术中 存在的技术问题。 撰写要求如下: ()要针对现有技术中存在的缺陷或不足 用正面的、尽可能简洁的语言客观而有根据 反映发明或者实用新型要解决的技术问题 也可以进一步 技术效果 琺睚产厝:决的技术间题的描 www.sipo.gov.cn
2.4.1 要解决的技术问题 是指发明或者实用新型要解决的现有技术中 存在的技术问题。 ◼ 撰写要求如下： (i)要针对现有技术中存在的缺陷或不足 (ii)用正面的、尽可能简洁的语言客观而有根据 地反映发明或者实用新型要解决的技术问题， 也可以进一步说明其技术效果 ◼ 对发明或者实用新型所要解决的技术问题的描 述不得采用广告式宣传用语
中华人民共和国国家知识产权局 State Intellectual Property office of the People's Republic of China 242技术方案 R171第(三)项所说的写明发明或者实用新型解决其技 术问题所采用的技术方案是指:清楚完整地描述发明或者 实用新型解决其技术问题所采取的技术方案的技术特征。 ■至少应反映包含全部必要技术特征的独立权利要求的技 术方案,还可以给出包含其他附加技术特征的进一步改 进的技术方案。 ■说明书技术方案部分应当写明独立权利要求的技术方案 其用语应当与独立权利要求的用语相应或者相同,以 发明或者实用新型必要技术特征总和的形式阐明其实质 必要时,说明必要技术特征总和与发明或者实用新型 效果之间的关系。 www.sipo.gov.cn
2.4.2 技术方案 R17.1第（三）项所说的写明发明或者实用新型解决其技 术问题所采用的技术方案是指：清楚、完整地描述发明或者 实用新型解决其技术问题所采取的技术方案的技术特征。 ◼ 至少应反映包含全部必要技术特征的独立权利要求的技 术方案，还可以给出包含其他附加技术特征的进一步改 进的技术方案。 ◼ 说明书技术方案部分应当写明独立权利要求的技术方案 ，其用语应当与独立权利要求的用语相应或者相同，以 发明或者实用新型必要技术特征总和的形式阐明其实质 ，必要时，说明必要技术特征总和与发明或者实用新型 效果之间的关系