二、光学曝光微加工工艺 ■通过具有一定图形的掩模板在硅片上进 行光学腐蚀。 接触式:设备简单,造价低,分辨率髙。 但成品率低,目前不使用 目前使用接近式和投影式。 衍射光强分布 透镜掩模硅片 图1-17接近式曝光方法
二、光学曝光微加工工艺 ◼ 通过具有一定图形的掩模板在硅片上进 行光学腐蚀。 接触式：设备简单，造价低，分辨率高。 但成品率低，目前不使用。 目前使用接近式和投影式
投影曝光分两种 1.反射式等比例曝光 优点无光学像差成像清晰 缺点高分辨率难实现 光源 透镜 基片 掩模 镜 图1-18全反射曝 光光
投影曝光分两种： 1.反射式等比例曝光 优点:无光学像差,成像清晰. 缺点:高分辨率难实现