二、 允许的最低酸度（最高pH) Ig K'n=Ig Kx-lg dY() pH @Y(H) MY 直至出现水解 金属离子水解酸度即最低酸度，对应的是最高H值，pH4 用K,求M(O),沉淀时的pH值，即pHH。 例：用0.01mol/L EDTA滴定同浓度的Fe3+,试计算pHH。 K 1037.9 解 [OH]=3 p,Fe(OH)3 =10-12.01 PHg =2.0 10-2 溶度积 初始浓度 Analytical Chemistry 6
Analytical Chemistry 6 二、允许的最低酸度（最高pH） Y(H) lg K' M Y = lg K M Y − lg pH Y(H) K MY ' 直至出现水解 金属离子水解酸度即最低酸度，对应的是最高pH值，pHH 用Ksp求M(OH)n沉淀时的pH值，即pHH。 例：用0.01 mol / L EDTA滴定同浓度的Fe3+ , 试计算pHH。 1 2.0 3 2 3 7.9 3 , ( ) 10 10 10 [OH ] 3 3 − − − − = = = + Fe s p Fe OH C K 解 pHH =2.0 溶度积 初始浓度
三、配位滴定中缓冲溶液的使用 配位滴定中广泛使用H缓冲溶液，这是由于： (1)滴定过程中的H]变化：M+H2Y=MY+2H+ K与KMm均与pH有关： (2)指示剂需要在一定的酸度介质中使用。 配位滴定中常用的缓冲溶液 pH4~5（弱酸性介质)， HAc-NaAc, 六次甲基四胺缓冲溶液 pH8~10(弱碱性介质)， 氨性缓冲溶液 pH<1,或pH>1, 强酸或强碱自身缓冲体系 加东理2大深 Analytical Chemistry
Analytical Chemistry 7 三、配位滴定中缓冲溶液的使用 配位滴定中广泛使用pH缓冲溶液，这是由于： （1）滴定过程中的[H+ ]变化：M + H2Y = MY + 2H+ K' MY与K' MIn均与pH有关； （2）指示剂需要在一定的酸度介质中使用 。 配位滴定中常用的缓冲溶液 pH 4~5 （弱酸性介质）， HAc-NaAc， 六次甲基四胺缓冲溶液 pH 8~10 （弱碱性介质）， 氨性缓冲溶液 pH < 1, 或 pH > 1, 强酸或强碱自身缓冲体系
6.7 提高配位滴定选择性的途径 当△gKc<5,N有干扰，不能利用酸效应来消除 配位掩蔽法 沉淀掩蔽法 降低N,使avN减小 氧化还原掩蔽法 改变N的价态 采用其他鳌合剂作为滴定剂 改变K AlgcK>5 山东理子大军 Analytical Chemistry 8
Analytical Chemistry 8 提高配位滴定选择性的途径 当∆lgKc<5， N有干扰，不能利用酸效应来消除 • 配位掩蔽法 • 沉淀掩蔽法 • 氧化还原掩蔽法 • 采用其他鳌合剂作为滴定剂 改变K △lgcK>5 降低[N]，使αY(N) 减小 改变N的价态
671 配位掩蔽法 加配位掩蔽剂L,降低N门 M+ Y MY H L N(L) HY NY OY田 QY(N) H+HL CL(H) a=1+lNKy=1+空Ky aND a一→掩蔽指数：a↑，aYN↓，K↑ 增大a心提高掩蔽效率，从而达到选择性滴定M的目的。 加东理2大军 Analytical Chemistry 9
Analytical Chemistry 9 配位掩蔽法 加配位掩蔽剂L，降低[N] M + Y = MY H+ N HnY NY L HnL NLn Y(H) Y(N) N(L) H L(H) + αN(L)→ 掩蔽指数：αN(L) ↑， αY(N) ↓， K’MY ↑ 增大αN(L)提高掩蔽效率，从而达到选择性滴定M的目的。 N Y N(L) s p N Y(N) 1 [N] N Y 1 K c K = + = +
常用的掩蔽剂： (氟化物NaF,NH4F) pH=4-6掩蔽A3+,Ti4+,Sm4+ pH=10掩蔽Mg,Ca,Ba (2)氰化物： pH>8掩蔽Cu2+,Ni2+,Co2+,Hg2+,Cd2+,Ag*,Zn2+ 山本理王大军 Analytical Chemistry 10
Analytical Chemistry 10 常用的掩蔽剂： (1) 氟化物 (NaF，NH4F) pH=4-6 掩蔽 Al3+ ，Ti4+ ，Sn4+ pH=10 掩蔽 Mg，Ca，Ba (2) 氰化物： pH>8 掩蔽 Cu2+ ，Ni2+ ，Co2+ ，Hg2+ ，Cd2+ ，Ag+ ，Zn2+