§11.1 醛和酮命名 §11.1.1 普通命名法 §11.1.2 系统命名法 §11.2 醛和酮的结构 §11.3 醛和酮的制法 §11.3.1 醛和酮的工业合成 §11.3.2 伯醇和仲醇的氧化 §11.3.3 羧酸衍生物的还原 §11.3.4 芳环的酰基化 §11.4 醛和酮的物理性质 §11.5 醛和酮的波谱性质 §11.6 醛和酮的化学性质 §11.6.1 羰基的反应活性 §11.6.2 羰基的亲核加成 §11.6.3 α–氢原子的反应 §11.6.4 氧化和还原 §11.7 α,β–不饱和醛、酮的特性 §11.7.1 亲电加成 §11.7.2 亲核加成 §11.7.3 还原反应 §11.8 乙烯酮 卡宾 §11.9 醌 §11.9.1 醌的制法 §11.9.2 醌的化学性质

§10.1 醚的分类、异构和命名 §10.2 醚的制法 §10.3 醚的结构 §10.4 醚的物理性质和化学性质 §10.5 环醚和环氧化物 §10.6 其它重要的醚

§9.1 醇和酚的分类和命名 §9.2 醇和酚的制法 §9.3 醇和酚的物理性质 §9.4 醇和酚的结构和化学性质

§8.1 核磁共振谱 (Nuclear Magnetic Resonance: NMR) §8.2 红外光谱 (Infrared Spectroscopy: IR) §8.3 质谱 (Mass Spectrum: MS)

§7.1 卤代烃的分类和命名 §7.2 卤代烃的制法 §7.3 卤代烃的结构 §7.4 卤代烃的物理性质和化学性质 §7.5 其它常见卤代物

§6.1 异构体的分类 §6.2 手性和对称因素 §6.3 手性分子的性质— 光学活性 §6.4 具有一个手性中心的对映异构分子的构型 §6.5 具有二个手性中心的对映异构 §6.6 手性中心的产生 §6.7 手性合成（自学） §6.8 外消旋体的拆分旋光纯度（自学） §6.9 脂环化合物的立体异构 §6.10 构象对映体和构象非对映体 §6.11 不含手性碳原子化合物的对映异构

§5.1 芳烃的构造异构和命名 §5.2 苯的结构 §5.3 单环芳烃的物理性质 §5.4 单环芳烃的化学性质 §5.5 苯环上亲电取代反应的定位规律 §5.6 芳香族亲电取代反应中的动力学和热力学控制

§ 4.1 二烯烃的分类和命名 § 4.2 二烯烃的结构 § 4.3 电子离域与共轭体系 § 4.4 共振论 § 4.5 共轭二烯烃的化学性质 § 4.6共轭二烯烃的工业的制法 § 4.7环戊二烯

§ 3.1 烯烃和炔烃的结构 § 3.2 烯烃和炔烃的同分异构 § 3.3 烯烃和炔烃的命名 § 3.4 烯烃和炔烃的物理性质 § 3.5 烯烃和炔烃的化学性质(难点) § 3.6 烯烃和炔烃的制法

§ 2.1 烷烃和环烷烃的通式和构造异构 § 2.2 烷烃和环烷烃的命名 § 2.3 烷烃和环烷烃的结构 § 2.4 烷烃和环烷烃的构象(重点) § 2.5 烷烃和环烷烃的物理性质 § 2.6 烷烃和环烷烃的化学性质 § 2.7 烷烃和环烷烃的制法