10 A,1200C 8 vm:v:vs=1:1.128:1.224 25°C H2,1200℃ 2 :... : I> 2 2 4 6 8 v(105cms1)
溅射蒸镀 表面分析 HighUltra-high vacuum- 房 o 104 6 2 10 wo)o'aiej eouepioul (wo). -1min -10 min -1 hr 06 day Pressure (N/m2) 1010 week month 102 104,10210010210410-6中-810 108 year 邑10210010210-410610810-1010-1210-4 Pressure(Torm） Molecular density,incidence rate,mean-free path,and monolayer formation time as a function of pressure
Molecular density, incidence rate, mean-free path, and monolayer formation time as a function of pressure 溅射 蒸镀 表面分析
不同真空度下气体的主要成分 压强 (torr) 主要气载 Atm Wet Air 10-3 Water Vapor (75%-85%) 10-6 H2O,CO 109 H20,C0,H2 10-10 C0,H2 10-11 H2
压强（torr） 主要气载 Atm Wet Air 10-3 Water Vapor（75%-85%） 10-6 H2O，CO 10-9 H2O，CO，H2 10-10 CO，H2 10-11 H2 不同真空度下气体的主要成分
表1-15气体的有关数据 分子热运动的平均速度 与器壁碰撞的气体 气春比定 /X10m·s 平均自由 热 1个分子 分子个数气体质量 气体体积 分子直 的质量 Xin /×0r2m 分 风袋 黑 粘系划 W.m2 气体 /×10 ⑧m3 ×102m/×0g K g ，1 20℃，1Pa 20℃ 20℃ 20t 20t,1P3 15℃ 20℃ 20℃ 20℃ 5.115 2.023 4.003 2.18 0.665 0,164 13.51 12.45 11.043 1.92 7.73 0.51 312.44 5230.62 1.660 0.1430 1.% 20.18 2.60 3.35 0.828 6.02 5.5 4.92 1.35 3.43 1.15 138.62 1037.59 1.64 0.0463 3.10 11.475 0.920 3.61 6.63 1.639 428 94 2.43 1.62 98.42 524.02 1.667 0.0163 2.2 16.20 0.631 13.91 3.438 25 1.68 2.34 68.11 253.64 0.0089 2.46 23.40 21.80 1.34 2.2 54.38 161.98 0.0052 29.325 2.016 0.35 0. 10.82 0.36 437.42 14286.79 1.408 0.1745 3.639 1410 4.1539 .149 2.91 1.35 117.87 1038.00 1.405 0.0240 13.50 1.33 2. 1.45 109.97 918.2 1.396 0.024 2.03 14.475 1.063 1 5.02 2 1.37 115.79 1008.29 .4034 0.0242 13.8 氧化 1.14g .91 1.35 117.87 1045.12 1.404 0.0224 1.n 13.50 1.137 氧化 2.59 1.231 4.94 4.03 1.40 113.78 997.40 0.0223 14.025 0.739 6.37 5.20 3.63 1.08 146.90 1874.69 0.022 8.80 10.80 二氧化碳 4.08 3.33 2.32 1.70 93.73 835.43 1.302 0.013 1.47 16.95 1.156 氧化二 731 3.33 2.32 1.70 93.73 839.61 0.0151 16.95 49 0.658 6.75 0.5 3.8 1.03 154.99 2204.50 0.0302 (1.14) 10.275 4.39 .02 0.32 2.81 .4 113.78 1700.15 123 0.0183 14.025 4.1 0.37 2.90 1.3 117.17 15 .38 1.25 0.0169 13.575 122.26 1668.34 0.0184 13.05 332 0.23 2.32 1.70 93. 1831 5 0.0151 t6.95 2.02 1.93 81 6 1420.14 0.0140 19.50 78.11 1.74 2.25 70 1204.59 0.0088 22.57s 17.03 535 3.74 1.05 151 2170.18 1.32 0.0215 (1.03) 10.575 1.762 氟里品11 137.37 1.89 3.00 53.06 30.00 120.91 2.2n 2.01 1.40 2.81 56.56 560.86 28.125 氟里昂12 水银 200.59 6.26 3.31 8.230 1.91 1.76 1.56 0.23 1.09 3.62 43.94 1.667 36.225 0.285
问题：表面测量要求一1小时内污染小于5%， 请问真空度至少要达到多少？请选择 合适的真空泵，并画出连接示意图
问题：表面测量要求－1小时内污染小于5%， 请问真空度至少要达到多少？请选择 合适的真空泵，并画出连接示意图