■(2)刻线式 ■在玻璃基片上镀制一层薄的金属箔,将其刻 划成栅状槽,然后在槽内填入光敏电阻材料 层后制成。其结构如下图所示。 sMMNNNNNN NN SA 注意:与梳状式的区别
◼ ⑵刻线式 ◼ 在玻璃基片上镀制一层薄的金属箔，将其刻 划成栅状槽，然后在槽内填入光敏电阻材料 层后制成。其结构如下图所示。 注意：与梳状式的区别
(3)涂膜式 ■在玻璃基片上直接涂上光敏材料膜后而制成。 其结构如右下图所示。 2、光敏电阻在电路中的符号
◼ ⑶涂膜式 ◼ 在玻璃基片上直接涂上光敏材料膜后而制成。 其结构如右下图所示。 ◼ 2、光敏电阻在电路中的符号 Rp
特性参数 1、光电流及增益 无光照时流过器件的电流称暗电流,由入射光 引起的称光电流 U
二、特性参数 ◼ 1、光电流及增益 无光照时流过器件的电流称暗电流，由入射光 引起的称光电流。 L U
增益可理解为:样品中每产生一个光生载流 子所构成的流入外电路的载流子数。 若G>1,即单位时间流过器件的电荷数大于器 件内光激发的电荷,从而使电流得到放大
增益可理解为：样品中每产生一个光生载流 子所构成的流入外电路的载流子数。 若G>1, 即单位时间流过器件的电荷数大于器 件内光激发的电荷，从而使电流得到放大
■增益系数:光电流与入射光引起的单位时 间电荷量的比值。 G=(TU,+Tun L2
◼ 增益系数：光电流与入射光引起的单位时 间电荷量的比值。 e I G p = L U 2 ( ) L U G n n p p = +