第九章 透射电子显微分析(TEM) 0.透射电子显微技术基础 1.原理★ 2.仪器构造女 3.成像操作和像衬度★ 4.样品制备★ 5.应用
第九章 透射电子显微分析（TEM） 0.透射电子显微技术基础 1.原理★ 2.仪器构造 ★ 3.成像操作和像衬度 ★ 4.样品制备 ★ 5.应用
回顾：在各种电子信号 透射电子显微技术基础 !基础上发展起来的检测 技术见P47:表3-1 ,:入射电子流 Ir:透射电子流 :背散射电子流 L:二次电子流 Ix:X射线辐射 I4:样品吸收电流 I:表面元素发射强度 入射电子束与固体作用产生的发射现象
入射电子束与固体作用产生的发射现象 回顾：在各种电子信号 基础上发展起来的检测 技术见P47：表3-1 透射电子显微技术基础
入射电子束 当电子束与样品相互 反射电子 二次电子 作用时，99%以上的 入射电子能量转化为 吸收电子 热能，余下1%能量用 于产生各类电子信息 非弹性散射电 弹性散射电子 直接透射电子 透射电子 电子束与材料作用产生的电子信号 透射电镜 利用透射电子通过磁透镜 原理成像的电镜技术，简 称为透射电镜。 弹性散射电子 非弹性散射电子 Transmittance Electron Microscopy,TEM. 直接透射电子
电子束与材料作用产生的电子信号 透射电子
·入射电子在晶体内，发生两类电子散射，一类相干散 射（弹性散射），一类是非相干散射（非弹性行散射)。 相干散射电子，遵从布拉格方程，形成衍射花斑或环； 非相干散射，导致晶体内出现沿空间所有方向传播的电 子波，形成衍射花样的背景强度。 ·原子核对入射电子的散射是弹性散射 ·核外电子对入射电子的散射是非弹性散射 原子核对电子的弹性散射，是透射电镜中成像 和衍射的基础。“(47：表3刊
• 原子核对入射电子的散射是弹性散射 • 核外电子对入射电子的散射是非弹性散射 原子核对电子的弹性散射，是透射电镜中成像 和衍射的基础 。（P47：表3-1） • 入射电子在晶体内，发生两类电子散射，一类相干散 射（弹性散射），一类是非相干散射（非弹性行散射）。 相干散射电子，遵从布拉格方程，形成衍射花斑或环； 非相干散射，导致晶体内出现沿空间所有方向传播的电 子波，形成衍射花样的背景强度
成像 1.原理 ·成像原理与光学显微镜类似 电子波长极短 高的像分辨本领 产生衍射现象 结构分析 (与物质作用产生的衍射遵从布拉格方程)
• 成像原理与光学显微镜类似 （与物质作用产生的衍射遵从布拉格方程） 电子波长极短 高的像分辨本领 产生衍射现象 结构分析 1.原理 成 像