铜氨络合物各种型体的分布 1.0 Cu2+ 0.8 Cu(NH3)2 分布分数 Cu(NH3)+ 0.6 0.4 Cu(NH3)2+ Cu(NH3)32+ 0.2 0.0 6 5 4321 0 -Ig[NH3] 4.13.52.92.1 pNH3 G 山本理王大军 Analytical Chemistry 21
Analytical Chemistry 21 铜氨络合物各种型体的分布 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 6 5 4 3 2 1 0 pNH3 分布系数 Cu(NH3 ) 2+ Cu(NH3 )2 2+ Cu(NH3 )3 2+ Cu2+ Cu(NH3 )4 2+ -lg[NH 4.1 3.5 2.9 2.1 3 ] 分 布 分 数
623 平均配位数 用EDTA作滴定剂时，配合比为1：1，配位数为1 用表示M离子的络合配位体的平均数，M的生成函数 ∑A =6M+20M,+.+ndM. Cm 1+∑[L i- n=f([L]) 如[例1山 1×13.49+2×40.74+3×30.20+4×3.89 n= 89.32 =2.25 山东理2大军 Analytical Chemistry 22
Analytical Chemistry 22 平均配位数 用EDTA作滴定剂时, 配合比为1:1, 配位数为1 用n表示M离子的络合配位体的平均数, M的生成函数 2 n 2 . n 1 [L] [L] [L] 1 1 M L n M L M L M L i i i n i i i i c c n = + + + + = − = = = 如[例1] 2.25 89.32 1 13.49 2 40.74 3 30.20 4 3.89 = + + + n = n = f ([L])
稳定常数总结 螯合物 简单络合物 [MY] [ML,] 逐级稳定常数 K稳n MJ[Y] [MLn-1][L] 累积稳定常数 B.=f1Ke [ML,] i=1 [M](L]" [ML,] B.L]' 分布分数 CM I+∑BL) i=l 立BI 平均配位数 =6+2dL,+.+ndM. 1+2I叫 东王大军 Analytical Chemistr 23
Analytical Chemistry 23 稳定常数总结 螯合物 简单络合物 [M][Y] [MY] KMY = [ ][ ] [ ] ML 1 L ML K n n n − 逐级稳定常数 稳 = 累积稳定常数 n 1 [M][L] [ML ] n i n i n = K = = 稳 分布分数 (1 [L] ) [ML ] [L] 1 M = + = = n i i i i i i i c 2 n 2 . n 1 [L] [L] 1 1 n ML ML ML i i i n i i i i n = + + + + = = 平均配位数 =
6.3 副反应系数和条件稳定常数 M MY OH L 白主反应 H AN OHH M(OH) ML HY NY M(OH)Y MHY 0. 。●e M(OH)m MLn H6Y 副反应 根据平衡移动原理：副反应的存在，使主反应能力降低，配合 物稳定性下降；引入副反应系数，表示副反应进行的程度 山东理王大深 Analytical Chemistry 24
Analytical Chemistry 24 根据平衡移动原理：副反应的存在，使主反应能力降低，配合 物稳定性下降；引入副反应系数 ，表示副反应进行的程度． 副 反 应 主反应 M + OH - L M(OH) M(OH)m ML MLn . . MY M(OH)Y MHY OH - H + Y HY H6Y NY . H + N 副反应系数和条件稳定常数
63,1 副反应系数 副反应系数：未参加主反应组分的浓度与平衡 浓度的比值。 一、 络合剂Y的副反应及副反应系数 M MY 主反应产物MY HY NY 存在形式 络合剂的 副反应产物 Cy HY,H2Y,.HGY,NY Y] 游离态：Y [Y [Y] a,个[Y]V [Y] Analytical Chemistry 25
Analytical Chemistry 25 副反应系数 一、 络合剂Y的副反应及副反应系数 + Y HY H6Y NY . H + N M MY 主反应产物 MY 副反应产物 HY, H2Y, .H6Y, NY 游离态：Y CY 络 合 剂Y 的 存 在 形 式 [Y] [Y'] Y [Y] [Y] [Y'] Y = 副反应系数 ：未参加主反应组分的浓度与平衡 浓度的比值