esTc 设计中 电子设计自动化技术 教师:李平教授(博导) Email: pliQuestc. edu.cn Te:83201794
设计中心 电子设计自动化技术 教师：李平教授（博导） Email: pli@uestc.edu.cn Tel: 83201794
esTc 设计中 多项目晶圆(MPW) 中中
设计中心 多项目晶圆（ MPW ）
esTc 设计中 工程坯流片 IC设计者在集成电路设计开发阶段,为了验证自已所 设计的集成电路是否成功,必须进行工程坯流片 集成电路设计者自己进行工程坯流片时,往往一片晶 圆上只能验证一个设计项目(产品),而每次工程坯 流片 FOUNDRY至少提供6-12片,制造出的芯片数量 将达到成千上万片,远多丁设计阶段产晶测试所需的 数量。如果设计成功,则可以将多余的芯片作为商品 出售,如果设计中存在问题,则所有芯片全部报废。 然而多数情况下,一个设计需要至少进行两次工程坯 流片才能成功,由此造成了极大人力和财力的浪费
设计中心 工程坯流片 IC设计者在集成电路设计开发阶段，为了验证自己所 设计的集成电路是否成功，必须进行工程坯流片。 集成电路设计者自己进行工程坯流片时，往往一片晶 圆上只能验证一个设计项目（产品），而每次工程坯 流片FOUNDRY至少提供6-12片，制造出的芯片数量 将达到成千上万片，远多于设计阶段产品测试所需的 数量。如果设计成功，则可以将多余的芯片作为商品 出售，如果设计中存在问题，则所有芯片全部报废。 然而多数情况下，一个设计需要至少进行两次工程坯 流片才能成功，由此造成了极大人力和财力的浪费
esTc 设计中 工程流片费用 口随着制造工艺的提高,流片费用不断上涨 一次0.6微米5"-6"CMOS工艺工程流片费(包 括制版费)需要20-30万元 一次0.35徼米8"CMOS工艺工程流片费(包括 制版费)需要上百万元 口因此,随着工艺的提升,工程坯流片费用 已经成为阻碍中小设计企业发展和培养集 成电路设计人员的一大障碍
设计中心 工程流片费用 随着制造工艺的提高，流片费用不断上涨 ¾一次0.6微米5″-6″CMOS工艺工程流片费（包 括制版费）需要20-30万元 ¾一次0.35微米8″CMOS工艺工程流片费（包括 制版费）需要上百万元 因此，随着工艺的提升，工程坯流片费用 已经成为阻碍中小设计企业发展和培养集 成电路设计人员的一大障碍
esTc 设计中 什么是MPw MPW( Multi-Project Wafer,多项目晶圆)就 是将多个具有相同工艺的集成电路设计放在 同一圆片上流片,按面积分担流片费用,以 降低开发成本和新产品开发风险,降低中 集成电路设计企业在起步时的门槛,降低单 次实验流片造成的资源严重浪费。同时 MPW加工服务可以降低人才培养的成本和 该领域科研工作的成本
设计中心 什么是MPW MPW(Multi-Project Wafer,多项目晶圆)就 是将多个具有相同工艺的集成电路设计放在 同一圆片上流片，按面积分担流片费用，以 降低开发成本和新产品开发风险，降低中小 集成电路设计企业在起步时的门槛，降低单 次实验流片造成的资源严重浪费。同时 MPW加工服务可以降低人才培养的成本和 该领域科研工作的成本