Ⅹ型反应活泼性高,但容易水解,适合于低温染色。K型活 泼性降低,不易水解,固色率有所提高,适合于高温染色与印 花。 这类活性基的“染料一纤维′′键的稳定性,主要与均三 嗪核上碳原子的带电性有关。通常核碳原子的正电性越高,染 料的反应性越高,“染料-纤维”键的耐碱水解稳定性越差。 因此,均三嗪核上各种取代基均会影响“染料-纤维”键的耐 酸或耐碱的稳定性。所以二氯均三嗪活性染料与纤维的结合键 较一氯均三嗪染料为差,尤其是耐酸性水解。这是由于均三嗪 核上的氯原子水解后所生成的酸对结合键具有自动催化水解作 用的关系
X型反应活泼性高，但容易水解，适合于低温染色。K型活 泼性降低，不易水解，固色率有所提高，适合于高温染色与印 花。 这类活性基的“染料一纤维’’键的稳定性，主要与均三 嗪核上碳原子的带电性有关。通常核碳原子的正电性越高，染 料的反应性越高， “染料－纤维”键的耐碱水解稳定性越差。 因此，均三嗪核上各种取代基均会影响“染料－纤维”键的耐 酸或耐碱的稳定性。所以二氯均三嗪活性染料与纤维的结合键 较一氯均三嗪染料为差，尤其是耐酸性水解。这是由于均三嗪 核上的氯原子水解后所生成的酸对结合键具有自动催化水解作 用的关系
在二氯均三嗪中用一个甲氧基来取代氯原子,由于甲氧基是供 电子基,电子诱导的结果,减弱了核碳原子的正电性,从而使 其反应性有所降低。这样就产生了 Cibacron pront染料。其反 应性介于一氯均三嗪与二氯均三嗪之间,具有较好的印浆稳定 性,特别适用于短蒸印花工艺。 D-NH OCH N 氯甲氧基均三嗪
在二氯均三嗪中用一个甲氧基来取代氯原子，由于甲氧基是供 电子基，电子诱导的结果，减弱了核碳原子的正电性，从而使 其反应性有所降低。这样就产生了Cibacron Pront染料。其反 应性介于一氯均三嗪与二氯均三嗪之间，具有较好的印浆稳定 性，特别适用于短蒸印花工艺。 一氯甲氧基均三嗪 N N N D NH OCH3 Cl
又如在一氯均三嗪的基础上,采用负电性更强的氟来取代氯, 这样可使均三嗪核上碳原子带有较强的正电性,从而比-氯均 三嗪型活性基团更为活泼,这就是 Cibacron F染料。它更适合 于中低温染色的工艺(40~60°C)。 N D-NH NHR N 氟均三嗪
又如在一氯均三嗪的基础上，采用负电性更强的氟来取代氯， 这样可使均三嗪核上碳原子带有较强的正电性，从而比一氯均 三嗪型活性基团更为活泼，这就是Cibacron F染料。它更适合 于中低温染色的工艺 (40～60℃)。 一氟均三嗪 N N N D NH NHR F
(2)嘧啶活性基 整个嘧啶基由于是二嗪结构,核上碳原子的正电性较弱, 因而它要比均三嗪结构的反应性为低。例如二氯嘧啶或三氯嘧 啶( DrimareneⅩ, Reactoη)比一氯均三嗪染料的反应性还低, 而稳定性最高,含这种活性基的染料最不易水解,“染料一纤 维”键的稳定性亦高,特别适合于高温染色 H D-NH D-NH N业 N N 氯嘧啶 三氯嘧啶
(2) 嘧啶活性基 整个嘧啶基由于是二嗪结构，核上碳原子的正电性较弱， 因而它要比均三嗪结构的反应性为低。例如二氯嘧啶或三氯嘧 啶(Drimarene X，Reacton)比一氯均三嗪染料的反应性还低， 而稳定性最高，含这种活性基的染料最不易水解， “染料一纤 维”键的稳定性亦高，特别适合于高温染色。 N N Cl H D－NH Cl N N Cl Cl D－NH Cl 二氯嘧啶 三氯嘧啶
在三氯嘧啶基的基础上引入不同的取代基能改变活性基团的反 应性,从而改进它的一系列性能。例如在2,4氯的位置上用更 活泼的氟来取代,形成二氟一氯嘧啶的活性基( Drimarene r, K),使它具有中等的反应活泼性,而有较高的固色率,更重要 的是它与纤维的结合键有很好的耐酸和耐碱的水解稳定性 C D-NH 二氟一氯嘧啶
二氟一氯嘧啶 N N F Cl D－NH F 在三氯嘧啶基的基础上引入不同的取代基能改变活性基团的反 应性，从而改进它的一系列性能。例如在2,4氯的位置上用更 活泼的氟来取代，形成二氟一氯嘧啶的活性基(Drimarene R， K)，使它具有中等的反应活泼性，而有较高的固色率，更重要 的是它与纤维的结合键有很好的耐酸和耐碱的水解稳定性