2沉积装置 主要由反应器(室)、供气系统和加热系统等组成 RF线围 基片 ooooo 一排气 OooO 石英管 基座 纯H SiH.I PH, S,HCle 容器 BH, HCL S——阀门M——限流阀A、B、C、D、E、F—流量计 图831Si片PN结构微细加工的cvD装置意示图
2. 沉积装置 主要由反应器（室）、供气系统和加热系统等组成 图8.3.1 Si片PN结构微细加工的CVD装置意示图
反应器的类型: oooo oo. 图8.3,2CVD反应器的类型
反应器的类型： 图8.3.2 CVD反应器的类型
沉积过程: ①在主气流区域,反应物从反应器入口到分解区域的质量输 运 ②气相反应产生膜形成的前驱体和副产物 ③成膜前驱体质量输运至生长表面; ④成膜前驱体吸附在生长表面; ⑤成膜前驱体表面扩散至生长点; ⑥表面反应和构成膜的生长; ⑦表面反应产物的副产物分解; ⑧副产物从分解区向反应器出口进行质量输运,直至排出
沉积过程： ① 在主气流区域，反应物从反应器入口到分解区域的质量输 运； ② 气相反应产生膜形成的前驱体和副产物； ③ 成膜前驱体质量输运至生长表面； ④ 成膜前驱体吸附在生长表面； ⑤ 成膜前驱体表面扩散至生长点； ⑥ 表面反应和构成膜的生长； ⑦ 表面反应产物的副产物分解； ⑧ 副产物从分解区向反应器出口进行质量输运，直至排出