CoSi化合物易于形成与其形成能较低有关： 20 -Amorphous ● Solid solution a一Intermetallics 0- 40 -50 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 x /at%Co 图1-6C0-Si系的自由能-成分曲线 Fig1-6 Free energy-composition curves of Co-Si system
CoSi化合物易于形成与其形成能较低有关： 1-6 1-6
3)氧化物弥散强化材料(ODS)的混制 Ni(NO2水溶液 Th9水溶液 (NH42C03+ HO水溶液 (pH=7.) 洗干 涤 燥 (获NiO+ThO2粉) 球磨 (<325目) 还原 (500~750℃) 氢 Ni+ThO2混合粉 图3-1Ni+ThO2混合粉制取
(获NiO+ThO2粉) Ni+ThO2混合粉 图3-1 Ni+ThO2混合粉制取 (3) 氧化物弥散强化材料（ODS）的混制